膜厚度测量仪 Element™

固定式数显带自动校准功能

市场上唯一具有基于透射和反射技术的独特组合的工具。该系统是电介质监测的工业标准。 产品概述 Element系统是晶圆供应商进行高速杂质测绘和电介质厚度测量的记录工具。它是市场上唯一具有独特的基于透射和反射技术组合的工具。该系统是电介质监测的行业标准。 我们与晶圆供应商合作，利用Onto Innovation的反射技术进一步改善晶圆的关键特性，如外延层厚度、外延层电阻率和体电阻率。 Element系统的传输是一种经典的、直接的方法，为监测电介质如BPSG、FSG、SiN中的H等提供最佳的灵敏度。机器学习被用来消除使用监测晶圆进行电介质测量。仅基于反射的系统对大多数这些电介质没有敏感性。 应用 - 外延层厚度 - 过渡区厚度 - 外延层和衬底电阻率 - 功率器件 - 体积电阻率 - 边缘排除法 - 间质氧和替代碳 - BPSG - BPSG层的硼和磷含量 - FSG--FSG的氟含量 - SiN - 测量氮化硅薄膜中的氢气 - HSQ - 氧化物SOG、FOX中的羟基和氢含量 - SiON - SiON中的氧气、氮气和氢气含量 - SiCN - SiCN中的碳 - SiOC - SiOC中的碳 - Oxygendose - 测量SIMOX工艺中的氧气植入剂量 - 氧气沉淀物 - 测量硅基材中的氧气沉淀物