金属抛光机 E^O^2

用于复合材料用于陶瓷用于金相试样

产品概述
双盘抛光机 E^O^2 在低速和高速均能提供高转矩，设计为台面高度以便手工抛光。更换盘片简便，机器配有供水和排水功能，适用于湿式抛光工况。

主要规格

• 双盘抛光机 E^O^2：转速范围内提供高转矩，盘片更换方便，台面高度设计便于手工精整。

机器规格

• 盘片尺寸：研磨盘 φ223 mm 或 200 mm；抛光盘 φ200 mm；磁盘 φ200 mm（盘片另售）
• 转速：0-400 rpm，可调（50/60 Hz）
• 供排水：2 个进水龙头与后置排水软管
• 电源：单相 100 V（50/60 Hz）或单相 200-220 V（50/60 Hz）；400 W 减速电机
• 外形尺寸（W×D×H）：760×700×240 mm（至排水口）
• 重量：63 kg

技术规格

• 适用范围：小至中型工件的手工湿/干抛光（适用于金属、复合材料、陶瓷等）
• 盘片更换：可工具接近的安装方式，便于快速更换
• 安全/人体工学：台面高度布局和集成排水可减轻操作人员负担；请遵守当地安全标准
• 配件：盘片另售；可选磁盘