行扫描显微镜物镜

焦距: 24.92 mm - 50 mm

线扫描镜头与用于机器视觉应用的线扫描相机一起使用。 分辨率 ： 30 & 50 lp/mm 波长： 400 – 700纳米 格式： 43mm 连接： F 接口 虹膜类型： 手动/电动 线： M52 x 0.75 机器视觉 视觉扫描

焦距: 20 mm - 40 mm

专为小型线扫描相机而设计 标准焦段及倍率可供选择 倍率覆盖 0.02x-0.33x V-Mount，灵活适配不同接口相机 适用于印刷包装检测 应用展示 工业 高度 检测金属的刻印 电子零件 瑕疵 / 污点 LED 外观检测 有无 / 辨别 辨别电池组的颜色 工业 瑕疵 / 污点 检查极片涂布上的瑕疵 / 污点

焦距: 20 mm - 100 mm

多焦段多倍率覆盖，宽对焦范围设计 均匀 MTF 设计，光学无热化设计 超低畸变，高相对照度 接口 M42×P1, 专为小型线扫相机设计 适用于印刷包装检测 工业 高度 检测金属的刻印 电子零件 瑕疵 / 污点 LED 外观检测 有无 / 辨别 辨别电池组的颜色 工业 瑕疵 / 污点 检查极片涂布上的瑕疵 / 污点

焦距: 40 mm - 100 mm

专为 8k7μ 线扫描相机而设计 标准焦段及倍率可供选择 倍率覆盖 0.02x-0.4x V-Mount，灵活适配不同接口相机 适用于锂电等大尺寸检测 应用展示 工业 高度 检测金属的刻印 电子零件 瑕疵 / 污点 LED 外观检测 有无 / 辨别 辨别电池组的颜色 工业 瑕疵 / 污点 检查极片涂布上的瑕疵 / 污点

焦距: 116 mm
图像圈: 62 mm

适用于 8k/12k 分辨率的相机 标准放大倍率覆盖 0.18X-1.29X 区域 大通光量设计可达 F4.5 超低光学畸变 应用展示 工业 高度 检测金属的刻印 瑕疵 / 污点 检测钢板上的瑕疵污点 液晶、半导体、其他 计数 SD 卡数量计算 几何测量 检测 IC 导线弯曲

焦距: 90 mm - 116 mm
图像圈: 66 mm

专为 16K3.5μ 超高精细线扫描相机而开发 为满足 3.5µ 的解像力，镜头实际分辨率 可达到 160lp/mm 光学畸变小于 1 pixel 大通光量设计可达 Fno 3.8 应用展示 工业 瑕疵 / 污点 检测钢板上的瑕疵污点 电子零件 有无 / 辨别 检测微小芯片的个数 & 刻印不良 瑕疵 / 污点 检测 相机缺陷 电子设备 有无 / 辨别 检测电机线的捆扎不良和引线断裂

焦距: 116 mm
图像圈: 82 mm

专为 16K5μ 超大型靶面线扫描相机而开发 镜头分辨率可达到 160lp/mm 为相机提供更高的对比度 光学畸变小于 1 pixel 标准放大倍率覆盖 0.22X-4.5X 应用展示 工业 瑕疵 / 污点 检测钢板上的瑕疵污点 电子零件 有无 / 辨别 检测微小芯片的个数 & 刻印不良 瑕疵 / 污点 检测 相机缺陷 电子设备 有无 / 辨别 检测电机线的捆扎不良和引线断裂

焦距: 116 mm

专为同轴照明光源系统设计 消除了使用分光凌镜引起的分辨率下降 达到高分辨率，高对比度的检测要求 16K/5µ 并兼容 16K/3.5µ 以及 12K/5µ 的线扫相机 附带 30*80mm 分光凌镜 超小的光学畸变小于 0.001%，小于 1Piexl 大通光量设计可达 F3.8 应用展示 工业 瑕疵 / 污点 检测钢板上的瑕疵污点 电子零件 有无 / 辨别 检测微小芯片的个数 & 刻印不良 瑕疵 / 污点 检测 相机缺陷 电子设备 有无 ...

焦距: 35 mm - 90 mm

最大像面可达 43mm，支持 2900 万像素芯片 可适配 4k 线扫相机，对应 5μ/7μ 像元 光学性能优于单反镜头 标准焦段及倍率可供选择 适用于印刷包装检测 应用展示 工业 瑕疵 / 污点 检测钢板上的瑕疵污点 电子设备 有无 / 辨别 辨别电池组的颜色 电子零件 高度 检测金属的刻印 液晶、半导体、其他 计数 SD 卡数量计算

焦距: 100 mm
图像圈: 82 mm

超高解析度线扫镜头 对应 16K5μ/3.5μ 相机 解析度达到 1μ 畸变 0.001% 以下 φ82 像面 画面中心到周边的均一性高 应用于 OLED 屏检测 应用展示 工业 瑕疵 / 污点 检测钢板上的瑕疵污点 电子零件 有无 / 辨别 检测微小芯片的个数 & 刻印不良 瑕疵 / 污点 检测 相机缺陷 电子设备 有无 / 辨别 检测电机线的捆扎不良和引线断裂