离子溅射源
{{product.productLabel}} {{product.model}}
{{#if product.featureValues}}{{product.productPrice.formattedPrice}} {{#if product.productPrice.priceType === "PRICE_RANGE" }} - {{product.productPrice.formattedPriceMax}} {{/if}}
{{#each product.specData:i}}
{{name}}: {{value}}
{{#i!=(product.specData.length-1)}}
{{/end}}
{{/each}}
{{{product.idpText}}}
{{product.productLabel}} {{product.model}}
{{#if product.featureValues}}{{product.productPrice.formattedPrice}} {{#if product.productPrice.priceType === "PRICE_RANGE" }} - {{product.productPrice.formattedPriceMax}} {{/if}}
{{#each product.specData:i}}
{{name}}: {{value}}
{{#i!=(product.specData.length-1)}}
{{/end}}
{{/each}}
{{{product.idpText}}}
... Mark II+ 无栅离子源 增大了射束输出并改进了维护功能 大幅度增大的射束电流和可拆卸阳极装置为 Mark II+ End-Hall 离子源增加了新价值,进一步改进了 Veeco 公司为光学镀膜系统提供的业界领先的无栅型离子源产品系列。 可为更高速的制程和更大型的加工室提供高达 70% 的更大射束电流 可拆卸阳极装置使维护工作变得更快捷并且可减少停机时间 整合式馈入装置和布线易于安装且可靠性高 适合于反应气体、惰性气体及高束流密度 更为小巧的规格使用与 Mark II 源相同的安装板以便更快速的进行升级 灵活的整合使节省空间的系统设计和广泛的射束角度成为可能 ...
VEECO
... 16 厘米 RF 离子源 适用于高度反应性工艺的宽且均匀的 RF 离子源 Veeco 为反应性工艺(例如高度控制的光学镀膜的离子束辅助沉积或离子束沉积)提供宽而均匀的离子束源。 可支持的操作条件范围广泛:50 到 1500eV,75 到 700mA 在惰性和氧化环境中均能实现可靠一致的操作 用水冷却,适用于低功率到高功率运行 可选的 4 网格设计提供了非常高的准直性 它具有业界唯一的无灯丝RF 中和器,其维护工作少,支持长时间运行 稳定高效的等离子体操作具有精确控制能力并允许高重复性 非常适合于负载锁定生产工艺 ...
VEECO
... 类别 - MERKURION® pro 项目描述 - 离子获取器泵。 二极管泵元件样式 (正极性),带 入口法兰DN40 CF和 标称抽速为39升/秒。 电气连接器10 kV SHV (与SAFECONN兼容) 在 电压+3000 ...+7000 V 交付条件。 真空部件已清洗(纯度为PC2)。 被抽下来。 烘烤(真空等级UHV 1)。 用夹层密封 烘烤温度(无磁铁) - 450 °C 烘烤温度(带磁铁) - 250 °C 文章编号 - 370442 连接类型 - CF 公称直径DN - 40 外径 ...