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重复精度: 5 µm
载荷: 30 kg
运行行程: 300 mm
... 开放式 XY 平台外形小巧，适用于显微镜应用中的各种自动精确定位。驱动机构位于装置的侧面，提供了一个清晰的双轴孔径，使光线或物体能够通过移动中心。 开放式框架 300x300 mm XY 平台的整个行程上都保持无缝孔径 型号 - 单位 - XY-OF-S300x300 XY-OF-S300x300-A300x300J XY 行程 - mm - 300x300 螺距 - 4 mm 孔径 - mm - 300x300 在整个行程范围内畅通无阻 台面 - mm - 400x400 高度 - 毫米 ...
重复精度: 1 µm
载荷: 30 kg
运行行程: 300 mm
... 开放式 XY 平台外形小巧，适用于显微镜应用中的各种自动精确定位。驱动机构位于装置的侧面，提供了一个畅通无阻的双轴孔径，使光线或物体能够通过移动中心。 行程 300x300 毫米至 600x600 毫米 ...
重复精度: 5, 10 µm
载荷: 4 kg - 25 kg
传送速度: 0.1 m/s - 10 m/s
... Z3TM+ 扩展了运动平台的模块组合。该模块增加了四个独立的自由度，即嵌入在放大的 Theta 空心轴内的倾角、俯仰、Theta 和 Z 轴。其中一种配置包括一个 Z 轴，该 Z 轴现在具有双叠加 Z 轴；一个细轴 (FZ) 和一个粗轴 (CZ)。通过设计，该可选模块能够完全满足先进半导体应用的晶片运动要求，从而为原始设备制造商提供适用于任何半导体技术的交钥匙解决方案。就单位体积内的功能数量而言，该产品的紧凑性创下了密度记录，而其性能则为晶圆级精度和动态设定了新的市场标准。 基于 Z3TM+ 挠性规的精细 ...
重复精度: 1.5, 5.5 µm
运行行程: 76 mm
传送速度: 50 mm/s
... 在尽可能小的结构空间内实现产量最大化 这个高精度的定位系统是专门为EUV光刻技术的小型化和自动化而设计的，是一个补充性的偏振过滤器。它在大约120 x 180 x 31 mm的非常有限的空间内，最大限度地提高了曝光质量以及现有晶圆步进器的产量。为此，三个可独立定位的过滤器在光学系统的光束路径上移动。它可用于极端环境条件下的高分辨率工艺，如EUV和干燥以及无氧纯氮气氛。 优化极端环境下的精度 - 是自动EUV光刻技术中小型化的理想选择 - 在最小的空间（约120 x 180 x 31 mm）内最大限度地提高现有晶圆步进系统的产量和分辨率 - ...
Steinmeyer Mechatronik GmbH
重复精度: 1.5, 2.5 µm
运行行程: 50, 150 mm
传送速度: 25 mm/s
... 紫外线曝光罩的XYθ对准｜在干燥的氮气环境中进行晶圆曝光的高精度定位系统 精密组件 786001:002.26 紫外线曝光罩的XYθ对准｜用于在干燥的氮气环境中进行晶圆曝光的高精度定位系统 - 精密组件 用于极端条件下微观结构的微米级对准 这个三轴掩模系统是专门为紫外光刻的曝光掩模的高精度定位而开发的。这个定位系统有三个平行运动学设计的线性轴：两个X轴和一个Y轴。两个垂直轴同时产生垂直冲程（平等运动）和旋转（相反运动）。因此，它能够在紫外线辐射下以及在超干的氮气环境中对纳米范围的掩模进行高精度的线性和旋转定位。 ...
Steinmeyer Mechatronik GmbH
重复精度: 1.5, 2.5 µm
... 双XY直线轴，用于高精度调整晶圆步进机的透镜 - 洁净室中的超细紫外线曝光 - 精密装配 高精度调整两个光学器件 这种高精度的双线性轴是专门为晶圆步进机开发的。两个透镜应相对定位，也可相互配合，以便在紫外线曝光期间实现更精细的结构。这个解决方案由一个共同的导轨系统上的两个滑动轴组成。两个移动的滑动车架各有三个车架，这使得它们可以在彼此内部部分移动，以便使镜片尽可能紧密地靠在一起。 在极其干燥的环境中进行超精细成像 - 专门为最大化晶圆步进系统的产量和分辨率而开发 - 在350毫米的移动距离内，镜头相互之间以及相互之间的同时定位 - ...
Steinmeyer Mechatronik GmbH