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... 概述
移动机器人激光熔覆系统 SFMR02 以紧凑、高度集成的布局设计，用于现场加工和表面修复。该系统便于移动和快速部署，可对轴类、曲面及复杂形状零件进行多用途熔覆作业。
应用
SFMR02 激光熔覆适用于航空航天、发电、石油与天然气/采矿、造纸以及模具修复等行业的涂层与修复任务。典型用途包括磨损件恢复、局部表面强化及高价值部件翻新，以延长使用寿命、降低停机时间和维护成本。
优势
- 现场激光熔覆可在不拆卸设备的情况下完成修复，降低停机时间。
- 具备多功能修复与增强能力：尺寸恢复、提高耐磨及耐腐蚀性能。
- 提供包括粉末配方及一站式个性化培训的工业翻新解决方案，覆盖技术、设备操作与维护、软件应用等。
文档
SFMR02 ...
... 概述
纳米复合涂层系统，将纳米颗粒在 PVD 基体内共同沉积，用于实现可控的颗粒嵌入和功能性表面。可提供用于研究和生产的定制工业配置。
型号
设备 NACRE
主要特性
- 磁控溅射（Magnetron sputtering）：1 至 3 个磁控源
- 利用气动透镜的纳米颗粒喷射：1 至 3 个透镜
- 基板夹持：旋转或行星运动
- 目标应用：光催化、光伏、量子技术
文档
产品文档（PDF）可供下载。
技术规格
- PVD
Socrate Industrie
... 介绍
PVD设备升级。我们提供设备的硬件和软件更新。全面升级包括基板加热、磁控溅射阴极、反应性气体调节、真空腔体温控以及软件更新。
特点 / 技术规格
- 用于磁控溅射PVD设备的石墨加热
- 带挡板的磁控溅射阴极适用于溅射PVD
- 旋转式基板夹具盖
- 基板夹具温度范围200 至 800 °C
- 集成测量压力和温度
- 真空腔体的温度调节
- 可翻新部件磁控溅射阴极或弧源
- 通过光学光谱实现反应性气体控制
Socrate Industrie
... 与Coat-X合作开发的聚对二甲苯沉积技术 用于电子、医疗和半导体器件涂层的低温沉积系统：CX-30/300/600 创新型聚对二甲苯–ALD混合多层沉积系统：CXC-20 ALD模块与PVD模块通过自动化传输系统连接 ...
Socrate Industrie
... 概述
基于CBVD技术的氧化物沉积系统，适用于2至18英寸晶圆处理。用于实现受控的氧化层生长，具备实时监测和全自动运行功能。兼容直径达Ø450 mm的晶圆。
系列
Sybilla系列设备。
主要特点
- 与合作伙伴3D Oxides共同开发的CBVD技术
- 对直径达Ø450 mm的晶圆实现均匀沉积
- 实时监测以维持生长条件
- 全自动化工艺
- 适用于2至18英寸晶圆
- 提供产品成像与可视化（Sybilla系列照片）
文档
提供技术文档（针对Oxides设备的PDF）。
参数 ...
Socrate Industrie
... PVD 真空硬铬涂层工艺已在汽车行业应用了几十年。在铝合金轮辋上溅射镀铬/铝是一种标准应用，因为它采用 100% 环保工艺，而且不像传统的水电镀那样会出现点蚀或脱落。高耐磨涂层可形成一层耐用薄膜，大大延长汽车轮辋的使用寿命。因此，PDV 硬铬镀层不仅使用方便，而且性能可靠，深受汽车制造厂的欢迎。 我们开发了 3 种标准设备，以满足不同客户的需求： RTSP - 900，产能为 1 件； RTSP - 1315，产能 2 件； RTSP - 1618，产能 4 件； 基于标准的汽车车轮和轮辋尺寸范围从 ...
... 陶瓷辐射基板库珀磁控溅射镀膜设备/陶瓷芯片直接镀铜溅射设备 陶瓷辐射基片上的库珀磁控溅射镀膜设备 DPC 工艺--直接镀铜是一种先进的镀膜技术，应用于 LED、半导体和电子行业。其中一个典型应用是陶瓷辐射基板。 与传统制造方法相比，DPC 工艺采用 PVD 真空溅射技术在 Al2O3、AlN、Si、玻璃基板上沉积库珀导电膜： DBC LTCC HTCC 的特点： 1.生产成本更低。 2.出色的热管理和传热性能 3.精确的排列和图案设计 4.电路密度高 5.良好的附着性和可焊性 皇家技术团队协助客户利用 ...