PVD镀膜机 RTEP900

热蒸发薄膜真空

碘化铯薄膜沉积真空镀膜机/碘化铯薄膜热蒸发镀膜设备 碘化铯薄膜热蒸发涂层性能 超高空间分辨率成像； 响应速度快，成像更清晰； 一流的边缘到边缘图像区域； 光学吸收层或反射层； 患者 X 射线剂量低； 适用于 CCD 和 CMOS 设备，尤其适用于医疗行业。 用于 X 射线成像设备的 CsI 薄膜沉积真空镀膜机是一种在屏幕上蒸发 CsI 以获得高质量成像的先进技术。该设备具有高分辨率性能，还广泛应用于安全检查和检测、高能物理子课题、核能物理等领域。 CsI 薄膜沉积真空镀膜机是专为医疗设备获得高 X 射线成像而开发的。该设备的主要特点如下 1.超高极限真空压力：高达 6.0*10-5 Pa； 2.快速加热装置，实现良好的粘合效果； 3.正确选择高真空泵和抽气系统，避免有害物质暴露在空气中； 4.坚固、紧凑和牢固的涂层系统； 5.稳定性高，可连续工作 960 小时。 6.Inficon 薄膜厚度控制器装置可在线监测薄膜厚度。 7.专为铯沉积设计和选择坩埚。 8.基片涂层，最大尺寸：500*500 毫米