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PVD镀膜机
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FCEV

... 氢燃料电池汽车双极板涂覆设备,碳基涂覆设备 , 双极板涂覆设备 应用: FCV 是燃料电池汽车的简称,是下一代绿色汽车的最新技术。它是 100% 环保的,不同于需要反复充电的干电池和充电电池等原电池。 其核心技术是如何利用燃料电池动力模块,通过氢气作为燃料与氧气之间的电化学反应产生电能。来自交通组织和全球汽车制造商的科学家、工程师、教授进行了数千次测试,最终开发出了适当的处理方法。 在过去的三年里,皇家技术公司与客户密切合作,成功设计并制造出高效率、商业化和标准化的溅射沉积系统。我们坚信,这项技术将颠覆汽车行业。 ...

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RTAC1616-SP

... 摘要:镀铬作为一种稳定、光泽度极佳的装饰、防腐蚀和耐磨损薄膜表面处理工艺,在过去几十年中被广泛用于许多行业。然而,六价铬(Cr6+)电镀损害了操作人员的健康,破坏了我们的环境。因此,三价铬(Cr3+)被用来代替(Cr6+)电镀。随着制造商对质量要求的提高和生产成本的降低,现在需要一种替代方案来取代成本高昂的(Cr3+)电镀,最重要的是不会对健康造成负面影响,也不会产生有害环境的废水。 当这一问题涉及到 PVD 时,它就迎刃而解了。皇家技术公司设计并开发了用于各种基底材料的标准化 ...

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RTAC1800

... 水龙头作为我们日常生活中的重要消费品,消费者和生产商都更加注重创意设计和表面处理工艺。PVD 真空离子镀用于取代传统的化学电镀--因其生产成本低、100% 环保、操作灵活等特点而倍受推崇。 PVD 真空镀膜的特性 极佳的外观效果 均匀的涂层厚度 卓越的耐磨性和耐腐蚀性 PVD 涂层硬度高 黄铜水龙头 PVD 涂层设备的优点: 1.电离率高,通过率高、 2.产能大,可满足大规模生产、 3.出色的薄膜附着力和多种颜色可供选择。 4.涂层材料:铬、钛、Zr、TiAl ...

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RT-EMI1600

... 摘要 RTEP1616-SPDC 真空镀金属机专为 EMI 屏蔽薄膜沉积而设计,广泛应用于电信设备、计算机、笔记本电脑、消费类电子产品、家用电器、航空航天和...领域。 我们的客户包括三星、苹果、联想、华为等电子产品制造商。 腔体直径 1600 毫米,高度 1600 毫米,可容纳各种产品。 EMI 屏蔽膜特性 1) 薄膜厚度:1.5 ~ 3 微米,视要求而定。 2) 薄膜电阻:(欧姆)优于 0.5Ω 3) 附着力:3M810 胶带 > 5B EMI 屏蔽膜涂层工艺 4) ...

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RTAC1008

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RT-MedC1000

... 生物兼容型医用 PVD 涂层 经验丰富的表面处理和 PVD 涂层生产商,可生产医疗器械、矫形器、探针、校准装置、植入物和手术切割工具。涂层具有生物兼容性,可用于与皮肤、组织、骨骼和血液接触的外部和内部设备。 涂层特性 提高耐磨性 减少摩擦 生物兼容性 装饰性色彩和美感 化学阻隔性 镍敏感性 盐溶液 消毒 生物兼容涂层薄膜 用于专用医疗设备和器械的 TiN 和 ZrN 系列金薄涂层。 用于切削工具和特殊应用的 ...

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RTAS1612

... RTAS 系列是一种集成式多沉积源设备,用于在金属零件、不锈钢物体上进行石墨、漆黑、蓝色、铜色和青铜色的通用处理。特别适用于高端豪华部件。 标准应用 珠宝、表带和表身、不锈钢运动器材、书写工具 电子消费品手机、笔记本电脑、相机、无人机 家用电子产品 车载电子产品; 不锈钢餐具 医疗器械和植入物 RTAS 设备配备圆弧和圆柱溅射沉积源。直流溅射、中频溅射、电弧蒸发和离子源等多种组合。所有这些都可在一台设备上实现,配置灵活性高,可满足各种应用需求。特别适用于小型部件的美观涂层:喷射黑、铜、黄铜和铬色。 与直流和射频溅射相比,中频溅射已成为大规模生产涂层的主要薄膜溅射技术,特别是用于表面电介质和非导电薄膜涂层的薄膜沉积,如光学涂层、太阳能电池板、多层、复合材料薄膜等。 它正在取代射频溅射,因为射频溅射的工作频率为千赫,而不是兆赫,沉积速度更快,而且还能避免像直流电那样在复合薄膜沉积过程中出现的目标中毒现象。 ...

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RTAE1600

... RTAE1600机器是为玻璃装饰膜设计和生产的,它包含钨丝蒸发和电弧蒸发两种来源。 热蒸发源用于非透明的银色和金色,通过铜和铝的沉积来获得高反射的表面处理。 电弧蒸发源可以产生更多的颜色,如琥珀色、蓝色、彩虹色、黑色、炭灰色、非透明金和半透明金等颜色。主要用于玻璃器皿的装饰涂层,如玻璃镜、玻璃项链、水晶LED照明、玻璃马赛克地砖、水晶饮料器皿等。 主要配置为阴极电弧蒸发源,采用离子源装置和偏置电源进行电弧放电,有效提高膜的附着力。 RTAE1600玻璃器皿PVD离子电镀机优点 独有的真空泵系统设计理念,功耗低,每小时降低30%~50%的生产成本。 专利的阴极电弧电源开发,最大限度地减少了这一缺点:宏观颗粒(液滴)的形成。 具有高能量的平面离子源用于离子轰击;(可选 阴极电弧电源有直流和脉冲两种型号,电弧电流稳定,电流控制准确,过冲小。 阴极电弧源专门设计和生产,以最大限度地提高目标的利用率(某些目标的利用率高达70%)。 炉膛内安装有电阻热蒸发和电弧蒸发源,以满足各种玻璃器皿涂层的需要。 ...

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RTAC1416

... 水晶玻璃真空镀膜机用于玻璃饰品的应用,如玻璃手镯、玻璃项链、水晶LED照明、玻璃马赛克地砖、水晶饮料器皿等。 主要配置是阴极电弧蒸发源,有离子源装置和电弧放电的偏置电源,以有效提高膜的附着力。 水晶玻璃多弧真空镀膜机有以下亮点。 独特的真空泵系统设计理念,功耗低,每小时可降低30%~50%的生产成本。 获得专利的阴极电弧电源是为了尽量减少这一缺点:微粒子(液滴)的形成。 具有高能量的平面离子源用于离子轰击。 阴极电弧电源有直流和脉冲两种型号,电弧电流稳定;精确的电流控制,过冲量小。 阴极电弧源专门设计和生产,以最大限度地提高目标的利用率(某些目标的利用率可高达90%)。 可选的偏压电源和离子源装置使最终精加工的颜色更加明亮。 ...

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RTAC1800-glass

... 灯罩 PVD 银真空镀膜机,灯罩 PVD 真空镀膜 皇家科技不仅为您提供镀膜机,还为您提供整体镀膜解决方案,以及交钥匙工程服务。 PVD 电镀可在金属零件表面生成金属膜,充分增加美学价值,为消费者带来高画质。从哑光到亮光,颜色从银、金、铜、青铜到黑色等。此外,PVD 电镀还具有其他方法无法比拟的优势。 优点 PVD 溅射+离子镀具有其他方法无法比拟的综合优势: 1.经济高效,可生成最薄、最均匀的镀膜; 2.真空室低温干燥镀膜工艺; 3.用途广泛,可用于在任何类型的基底(如金属、陶瓷、塑料材料)上沉积导电或不导电材料。 4.多层涂层的生产非常简单。 5.沉积速度快,表面质量高。 ...

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SP series

超硬质涂层制备方案设备是专为镀制超硬质薄膜而研发的,适用于模具、工具、刀具等行业,使其表面获得更耐磨,更防腐蚀性的膜层,提高刀具使用寿命3~10倍,提高模具使用寿命5~10倍。

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DLC(类金刚石涂层)涂层设备广泛应用于发动机零部件,有色金属切削工具、滑动密封部件、纺织行业等工业领域。 该系列设备适用于多种DLC涂层,可根据客户需求搭载过滤弧离子镀、非平衡磁控溅射、PE-CVD等组合配置,适用于汽车零部件制造、机械零件、模具、轴承、冲拉模、模具、航空航天部件等。 本公司开发的“中间层技术”DLC膜通过着力于中间层,从而实现良好的附着性、耐磨性、高硬度、低摩擦系数、低表面粗糙度,使 DLC涂层得到更优越的性能,一举攻破低温成膜技术的瓶颈,使得DLC涂层可在更多领域发展。

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多弧离子镀膜设备具有沉积速度快,离化率高、离子能量大、膜层结合力好、设备操作简单、运行成本低、生产效率高。微米级厚度的硬质涂层可以有效的保护被镀产品的外观。低温镀膜工艺可以实现在多种材料上沉积,涂层工艺的多种组合可以制造出更多色彩。

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联体镀膜设备是实力源保证高品质、高效率、高稳定性的基础上,推出更完美的真空镀膜量产解决方案。连续式镀膜可以使镀膜室不会暴露于大气,保证了镀膜工艺稳定的同时也节省了抽气时间,生产效率倍增。联体设备通过真空机组的简化和优化配置,镀制同等数量产品联体设备能耗约为单体设备能耗的60%,有效的节约能源,给企业降低成本,设备投资回收期大幅缩短。

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... 中频磁控溅射镀膜设备具有溅射速率快、沉积速率高的优点,完全克服了打靶电弧,有效控制了中毒现象。可在金属制品和非金属制品的表面镀上合金膜、多层复合膜等。该产品具有镀层美观、表面精细、耐磨、耐色等特点,并可镀出多种颜色。目前,该产品已被国内知名OEM厂商广泛使用。广泛应用于手机外壳、电脑配件、镁合金配件、高档卫浴五金等产品的表面处理和加工。 ...

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... 手表首饰镀膜设备,通过阴极电弧、大功率中频溅射和直流溅射,辅助高压离子轰击和脉冲偏压,使涂层更致密,附着力和光泽度提高。该设备可进行金属膜、复合膜、多层复合膜等的镀膜。 ...

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AF 涂层设备配置了高效的电阻加热蒸发装置和先进的等离子体装置,加热蒸发镀膜技术和磁控溅射镀膜技术的有效结合,设备的适用范围更广泛,可得到多种性能的膜层。可在装饰和功能薄膜上加镀AF涂层,使其具备多种色彩的同时又具有超防水、抗油污、抗菌、防指纹并长效耐久之表面特性。

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我司光学磁控溅射镀膜机技术拥有稳定的成膜系统,和配套精准的控制方式已被各大公司广泛应用。 该类型设备具有配套可制化工装,让客户产能效率达到最大化。实力源独有SI高离化靶源,生产中补足均衡高折射薄膜的制备。此技术可具备AR+AF薄膜及七彩渐变和光学薄膜的制备。该类型设备低温成膜形式,可应对各种产品的表面薄膜的制备。设备全自动化溅射控制模式,实时监控膜层状态,实现稳定、批量的生产。

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针对目前钕铁硼镀膜的急剧需求,最新推出改良型钕铁硼表面涂层设备,设备为滚镀方式,从而解决了客户小体积磁钢的镀膜需求,我们行业经验丰富,为客户提供一条龙服务,解决客户担忧。

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通过磁控溅射低温成膜方式,辅助高压离子轰击,在钕铁硼材料上快速镀制Dy、Tb涂层,经过晶界扩散技术得到高性能磁材,节约重稀土的用量,为企业减少产品生产成本。 我公司根据生产需求对:靶材利用率、镀膜转化率、沉积速率、生产效率等问题做出特殊设计方案。满足客户对成本的管控提供全面解决方案。

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