手机外壳中使用的屏蔽涂层 铜 PVD 热蒸发镀膜机,铜溅射沉积系统
RTEP1616-SPDC PVD 铜真空镀膜机由热蒸发和溅射沉积源、真空镀膜室、真空泵系统、沉积系统、冷却系统、电气控制系统、工件旋转架组成。
热蒸发和溅射金属化机的特点:
双腔体,可进行独立的装载操作。
四种镀膜工艺模式可供选择。
可选项:可安装射频发生器或磁控溅射源进行表面镀膜。
采用行星旋转机构,可在曲面基底上实现良好的薄膜均匀性。
热蒸发和溅射金属化机的应用:
塑料餐具、陶瓷、电子产品、手机外壳、NCVM 应用、装饰品、金属饰面。
涂层功能:保护涂层、功能涂层。
薄膜导电铜膜、金属膜、半透明膜、手机 EMI、NCVM、绝缘膜。
基材:塑料零件、建筑材料、工艺品、电子产品等
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