氧气分析仪 DF-760E ULTRA

质量控制湿度踪迹

紧凑型DF-760E NanoTrace ULTRA分析仪可为UHP大宗气体提供先进的质量控制测量，为痕量和超痕量水分（H2O）和氧气（O2）进行双组分测量提供优异的解决方案。 DF-760E ULTRA提供了一种紧凑的集成解决方案，用于同时监测痕量水分和痕量氧气，它是一款可用于监测集成电路板制造中使用的UHP大宗气体的分析仪。 DF-760E ULTRA将Servomex的无消耗电量分析传感器的非凡性能与强大的可调谐二极管激光（TDL）技术结合在一个紧凑的装置中，可测量背景气体氮气混合物中H2O和O2的超低污染物水平（ N2），氢（H2），氦气（He），O2和氩气（Ar）（仅O2中的H2O） 业内非凡的测量性能 DF-760E ULTRA可达到低至55ppt（H2O）和45ppt（O2）的低检测下限（LDL），提供了快速的响应速度，高测量稳定性和对痕量酸损害的免疫抗力，因此非常适合质量半导体FAB应用中的检查和泄漏检测。 低维护设计使我们达到了这种非凡的性能，该设计通过弹性零漂移传感技术实现，无需进行持续的校准。 高稳定性TDL迹线/超迹线测量 当您从事集成电路板的制造时，电子级UHP气体的质量控制至关重要。要测量作为微量污染物的O2和水分，您需要一种高度敏感的测量方法，其测量范围可以降至最低水平。快速响应和稳定的测量可靠性是必须的。而且，无论您的测量要求如何，您都需要一种能够提高运营效率的解决方案。我们认为您不必妥协。 绝不妥协的解决方案 DF-760E ULTRA是Servomex唯一一款通过先进的TDL和库仑电子传感器技术提供的用于超痕量水分和氧气的组合分析解决方案。低LDL – 55ppt（H2O）/ 45ppt（O2）-提供了所需的灵敏度，并且通过单个设备即可测量N2，H2，He，Ar和O2背景气体的多种气流的能力提供了相当大的适应性，以适合您的气体质量检查需求。 维护简单，降低了运营成本 通过在一个紧凑的一体式解决方案中提供双重分析功能，DF-760E ULTRA减少了分别使用单独的O2和H2O分析仪所带来的占地面积，基础架构和维护成本。通过提供始终可靠，快速的响应速度和零漂移，DF-760E ULTRA可帮助延长维护和校准间隔，而工厂预校准可简化设置和安装。这确保DF-760E ULTRA为半导体行业提供集成的增值解决方案。