氧气分析仪 DF-760E

氢监控踪迹

紧凑的DF-760E设计用于UHP大宗气体的质量控制应用，为微量级和超微量级水分(H2O) 和氧气 (O2) 双组分测量提供了一种独特的解决方案 DF-760E是针对集成电路板制造中UHP大宗气体监测而设计的一款分析仪，为同时监测微量级水分和氧气提供了一种紧凑的一体化解决方案。 DF-760E在紧凑的空间内集成了业内领先的仕富梅非损耗型库仑电量法传感器和坚固耐用的可调谐激光二极管(TDL)技术，可以对等氮气 (N2)、氢气 (H2)、氦气 (He)、氧气(O2)和氩气 (Ar)（仅限O2中的H2O）背景气体混合物中的超低含量H2O和O2进行测量。 业内领先的测量性能 DF-760E具有业内领先的100 ppt (H2O)和45ppt (O2)超低检测限(LDL)，可以实现快速响应、无与伦比的稳定性而且不受微量级酸性物质腐蚀，是半导体制造行业质量检验和泄漏检测应用的理想之选 采用灵活的零漂移传感技术，无需后续标定，这种低维护设计可实现无与伦比的测量性能。 高稳定性TDL迹线/超迹线测量 当您从事集成电路板的制造时，电子级UHP气体的质量控制至关重要。要测量作为微量污染物的O2和水分，您需要一种高度敏感的测量方法，其测量范围可以降至最低水平。快速响应和稳定的测量可靠性是必须的。而且，无论您的测量要求如何，您都需要一种能够提高运营效率的解决方案。我们认为您不必妥协。 绝不妥协的解决方案 DF-760E是唯一通过Servomex的领先TDL和库仑电子传感器技术提供的用于超痕量水分和氧气的组合分析解决方案。低LDL – 100ppt（H2O）/ 45ppt（O2）-提供了所需的灵敏度，并且能够通过单个设备测量N2，H2，He，Ar和O2背景气体的多种气流，从而提供了相当大的适应性以适合您的气体质量检查需求。 维护简单，降低了运营成本 通过在一个紧凑的一体式解决方案中提供双重分析功能，DF-760E减少了因分别使用单独的O2和H2O分析仪而产生的占地面积，基础架构和维护成本。通过提供始终可靠，快速的响应速度和零漂移，DF-760E有助于延长维护和校准间隔，而工厂预校准则简化了设置和安装。这确保了DF-760E为半导体行业提供集成的增值解决方案。