晶圆计量系统 XHEMIS EX-2000

用于200毫米以下毯状晶圆的XRR和XRF测量工具 毯状晶圆上薄膜的厚度、密度、粗糙度和成分 这种多功能的X射线计量工具使用X射线荧光（XRF）和X射线反射率（XRR），对从超薄单层膜到多层堆叠的毯状晶圆的厚度和密度进行高通量的非破坏性测量，用于工艺开发和薄膜质量控制。 为大批量制造而设计 XHEMIS EX-2000是为大批量制造200毫米以下的晶圆而设计的。测量前出色的平台对准使其能够快速、准确地测量各种晶圆样品。高度精确的平台控制能够在很短的时间内完成全表面的测绘。 用户友好的设计工具 当配备了传输机器人时，XHEMIS EX-2000可以自动处理晶圆。AutoCal（自动校准功能）保持恒定的工具条件。用户友好的软件使工具操作和数据分析变得简单。这个工具可以用于从研究到生产的各种应用，用于质量控制。 广泛的材料和应用 同时评估薄膜厚度、密度和粗糙度 高通量的晶圆测量 来自XRR的绝对结果（不需要校准标准 通过XRF进行全晶圆测绘和高速测量 高分辨率和精度，覆盖从埃斯特罗到微米的厚度 可接受200毫米、150毫米、125毫米和100毫米的晶圆 可用自动校准功能