产品介绍该设备用于碳化硅晶片的边缘倒角加工,兼容4、6、8英寸晶片,并支持OF面加工。可选配NOTCH槽加工功能。系统采用双工位布局,以支持连续产能和稳定运行。
产品参数(表)主机尺寸和重量:2250 (L) * 1650 (W) * 2600 (H) mm;3000 kg
晶片尺寸:4 / 6 / 8 英寸
晶片厚度:300 μm—1500 μm
工位:双工位
晶片参考面形状:OF / Notch(Notch选配)
设备尺寸:2250 (W) * 1650 (D) * 2600 (H) mm
磨削X/Y/Z轴精度:±1 μm
陶瓷吸盘平面精度:≤3 μm
研磨台主轴端面及径向精度:±1 μm
砂轮轴端面及径向精度:±1 μm
砂轮外径:φ202 mm
砂轮安装内径:φ30 mm
砂轮厚度:20 mm
砂轮转速:0–4000 r/min(根据客户需求)
Notch砂轮转速:0–100000 r/min(根据客户需求)
砂轮槽型:T、R、TT、RR、TR 型等
晶片厚度测定(非接触式或接触式):重复精度 ±2 μm;测定点:中心
清洗方式:旋转清洗
干燥方式:离心干燥
装载/卸载区:盒数:4;片槽数:25(可设定)
特性 / 技术规格- 适用:碳化硅晶片倒角加工,兼容4/6/8英寸
- 可选功能:OF面加工,NOTCH槽加工(选配)
- 双工位布局,支持连续装卸
- 精度:X/Y/Z轴 ±1 μm;陶瓷吸盘平面精度 ≤3 μm
- 砂轮规格:外径φ202 mm,安装内径φ30 mm,厚度20 mm
- 转速范围可配置:砂轮 0–4000 r/min;Notch砂轮最高可达100000 r/min
- 厚度测量:中心点测量,重复精度 ±2 μm
- 加工后清洗与干燥:旋转清洗,离心干燥
- 装载/卸载:4盒,25槽(可调)