产品简介该产品适用于半导体硅晶片材料的边缘倒角加工,兼容4寸、6寸和8寸晶片。设备支持OF(Orientation Flat)面加工,并可选配NOTCH槽加工功能。适用于产线环境,具备高加工精度、高效率与运行稳定性。
产品参数主机尺寸(L*W*H):2250 * 1650 * 2600 mm;重量:3000 kg
晶片尺寸:4寸、6寸、8寸
晶片厚度范围:300 μm — 1500 μm
工位:双工位
晶片参考面:OF / Notch(Notch选配)
设备占地(W*D*H):2250 * 1650 * 2600 mm
磨削X/Y/Z轴精度:±1 μm;陶瓷吸盘平面精度:≤3 μm
研磨台主轴端面及径向精度:±1 μm;砂轮主轴端面及径向精度:±1 μm
砂轮外径:Φ202 mm;安装内径:Φ30 mm;砂轮厚度:20 mm
砂轮转速:0–4000 r/min(可按客户需求定制)
Notch砂轮转速:0–100000 r/min(可按客户需求定制)
砂轮槽型支持:T、R、TT、RR、TR 等
晶片厚度测量:接触或非接触;重复测量精度 ±2 μm;测点:圆周8点+中心1点
清洗方式:旋转清洗
干燥方式:离心干燥
装载/卸载:4盒;25槽(可调)
特性 / 技术规格- 型号:GC-BD804
- 应用:半导体硅晶片边缘倒角(4寸、6寸、8寸)
- 主机尺寸(L*W*H):2250 * 1650 * 2600 mm
- 主机重量:3000 kg
- 晶片厚度处理范围:300 μm — 1500 μm
- 工位配置:双工位以提高加工效率
- 参考面加工:支持OF;Notch为选配项
- X/Y/Z轴定位精度:±1 μm;陶瓷吸盘平面精度:≤3 μm
- 研磨台与砂轮端面及径向精度:±1 μm
- 砂轮规格:外径 Φ202 mm,内径 Φ30 mm,厚度 20 mm
- 砂轮转速可按客户需求配置(0–4000 r/min);Notch砂轮可达 0–100000 r/min
- 支持砂轮类型:T、R、TT、RR、TR 等
- 厚度测量系统:接触或非接触;重复精度 ±2 μm;测点:圆周8点+中心
- 集成旋转清洗与离心干燥工序
- 装载/卸载设计:4盒,25个可调槽位