压缩空气分配系统 JW

罐用工业用途水

用于大批量工业流体输送的 PLC 控制自动化大宗液体化学品供给系统 (BCDS)

BCDS 为半导体晶圆厂、动力电池工厂等高产能制造环境提供高容量、连续的化学品供给。系统可每日输送大量工艺化学品，并通过 PLC 自动化与冗余泵体结构向用液点提供无脉动供给。

PLC 自动化与运行控制
集成 PLC 实时监测流量、管路压力与罐位并调整泵速以确保稳定供液。控制策略支持配方控制计量、自动桶切换及触摸屏 HMI 显示状态、设定与报警，从而减少人工干预与污染风险。

安全、材料与纯净度
PLC 逻辑包含自动泄漏检测、快速紧急停机与歧管隔离。对挥发性溶剂实施氮气罩控。湿接触部件为电解抛光 316L 不锈钢及指定处 PFA，以满足超高纯度要求。

技术参数
型号: JW-200L-CDM, JW-1000L-CDM
特种气体柜尺寸: W2200*D1500*H2000（双桶）/ W2990*D2100*H2000（双桶）
控制柜电源: 220VAC, 50HZ, 0.5～3KW, 漏电保护
吹扫: PN2, SS316 1/2"SWG
超纯水: UPW, JIS 16A 对接
压缩空气: CDA, SS316 1/2"SWG
废液出口: 排水, PP DN20 熔接座 / 排水, PP DN25 熔接座
标准配置: PP 外壳 + 透明 PVC 观察窗 + PFA 内管阀门、氮气吹扫、取样、全自动酸液补给、自动左右桶切换；泵体配置为两用一备；按桶液位自动切换供液；触摸 HMI 显示阀门与管路供液状态；自动切断供液、预警与报警；多重安全自检与确认；多语言支持；支持多路信号输入、代码扫描器、高效滤芯、门磁（可选）。

处理的特殊化学品

• HF – 氢氟酸
• HCL – 盐酸
• H2O2 – 过氧化氢
• KOH – 氢氧化钾
• HNO3 – 硝酸
• NH4OH – 氨水
• H2SO4 – 硫酸

CDM 与 CDS 的应用

• 半导体
• 光伏
• 太阳能
• 液晶面板
• 光纤
• 其他生产领域

CDM 与 CDS 的功能

• 化学品过滤
• 化学品取样
• 化学品循环
• 化学品输送

特性 / 技术规格

• 型号: JW-200L-CDM; JW-1000L-CDM
• 机柜尺寸（示例）: W2200 × D1500 × H2000（双桶）；W2990 × D2100 × H2000（双桶）
• 控制柜电源: 220 VAC, 50 Hz, 0.5–3 kW，带漏电保护
• 吹扫气体: PN2，经 SS316 1/2" SWG 管路
• 超纯水接口: UPW, JIS 16A 连接
• 压缩空气: CDA，经 SS316 1/2" SWG
• 废液出口选项: PP DN20 或 DN25 熔接座排水
• 湿接触材料: 电解抛光 316L 不锈钢及按要求的 PFA 内管道
• 标准功能: 氮气吹扫、取样、自动酸供给、自动桶切换、泵冗余配置、触摸 HMI、自动泄漏检测与紧急停机、多语言 HMI、多路信号输入、可选代码扫描器、可选高效滤芯与门磁
• 运行能力: 连续监测并调节流量、压力与罐位；CDM 支持配方控制的混合/稀释；阀门歧管箱（VMB）隔离可在不停止厂区供给的情况下对单支线检修
• 安全协议: 非接触液位检测、二级围堰、自动切断与报警逻辑、有机溶剂的氮气罩控