晶圆蚀刻机 IML-5-1

- 蚀刻速率可进行高低控制 - 无灯丝 μ 波中和器（选配）。 - 安装 EPD（端点探测器）（选件）。 - 可用于反应气体（选件）。 - 桶式无灯丝射频离子源（选件） - MEMS 设备的微细加工、高频滤波器和化合物半导体的布线和电极加工、磁性传感器的微图案化/成型加工等。 设备评估 我们将首次免费提供根据客户应用量身定制的样品加工。 请就晶圆尺寸、加工晶圆数量等向本公司咨询。 离子源尺寸 - Φ200 离子源电压 - 300～1000V 电流密度 - ~ 1 mA/cm2 物体基底 - 1 × 5 " 支架运动 - 旋转和倾斜 支架冷却 - 水冷却 / 气冷却