它适用于半导体和光伏领域。对于光伏领域的 TOPCon 工艺电池,LPCVD 设备可一站式完成隧道氧化层/多晶层的制备。热氧与多晶层沉积相结合,可大大提高产能,同时兼容 i/d-Poly 生长工艺。
主要特点
成熟的高产能工艺、双模温度控制技术、膜规保护技术;
具有多种镀膜技术:多层复合膜、掺杂多晶硅技术;
获得专利的快速冷却炉体:最新专利技术使炉体温度快速降至所需温度,冷却速度可提高 25% 以上,可明显改善炉管内的温度均匀性;
快速自适应压力闭环控制技术;
结构完整、性能卓越的 MES/CCRM 系统;
集成工业计算机 + 模块化过程控制软件;
全面的断电安全处理和法兰水异常保护。
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