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扩散炉
室式退火氧化

扩散炉 - Han's Laser Technology Co., Ltd - 室式 / 退火 / 氧化
扩散炉 - Han's Laser Technology Co., Ltd - 室式 / 退火 / 氧化
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产品规格型号

配置
室式
功能
退火, 氧化, 扩散
热源
燃气
其他特性
环保
温度

最多: 1,100 °C
(2,012 °F)

最少: 400 °C
(752 °F)

产品介绍

低压扩散目前被认为是有效提高太阳能电池转换效率的一种有效方法。 低压扩散目前被认为是有效提高太阳能电池转换效率的有效方法。低压扩散/散射氧化退火改善了扩散源的分子自由通路,解决了扩散深度和均匀性的问题;与常压扩散相比,具有生产率高、方阻高、工艺重复性好、源消耗低、清洁环保等显著优点。该设备主要用于晶体硅太阳能电池生产中硅片的扩散掺杂和氧化退火工艺。 主要特点 成熟的大容量工艺、装载和卸载系统:平衡对称设计,提高稳定性; 快速冷却炉体:最新专利技术使炉体温度快速降至所需温度,冷却速度提高 25% 以上,可明显改善炉管内的温度均匀性; 废气由高效水冷冷凝器收集,确保管道、阀门、过滤器和隔膜泵运行稳定可靠,维护周期长; 稳定的抗干扰源管路设计,减少因环境因素干扰引起的方阻波动; MES/CCRM 系统结构完整,性能卓越。

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* 显示价格为参考价,此价格不含税、不含运费、不含关税,也不包含因安装或投入使用所产生的其他额外费用。参考价格可能因国家、原材料价格和汇率的不同而产生变化。