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... 高度降低 36%，体积减少 40%，样品单元光纤电缆所需的空间减少 46%。 光源单元和浓度计主机可以远程单独安装，支持根据化学药液单元和清洗设备的位置灵活安装。 高温化学溶液（20 至 80℃）的高稳定性在线测量 新的光学 系统和改进的处理算法支持在线测量高温化学药液，这是先进湿法制程的关键一步。这消除了冷却化学样品的需要。HORIBA 的 CS-600F 稳定性高，实现了更有效和准确的化学药液管理。 背景校正频率显著降低 ...
HORIBA STEC
... HORIBA CS-700 化学药液浓度计能够对先进半导体制程中使用的复杂化学药液的单个化学成分进行高性能测量。 通过改进 HORIBA 的光谱测量技术，CS-700 测量性能提升高达 5 倍。 提供增强的质量控制，改进半导体制程。 适合控制化学药液的单个成分。 实时、高性能检测多达 8 种组分 无需试剂，零样品消耗，降低拥有成本 安装简单，即装即用 ...
HORIBA STEC
... 半导体生产制程中使用的超纯水可以通过使用离子交换树脂进一步纯化。快速捕获从离子交换树脂中溶解的二氧化硅可以控制超纯水的质量，这对制程十分重要。 HORIBA Advanced Techno 开发并采用了一种新的“长光路径长度测量单元”，能够对超低密度二氧化硅进行高灵敏度测量，同时还提供紧凑的桌面型号，以提高实用性。 该产品具有自诊断等一系列标准功能以及高速响应和高灵敏度等新的性能改进，为半导体生产制程中的纯水工艺提供了更强的支持。 高灵敏度和高重复性 应用光纤技术确保约 1 m 的长光路径实现了超低密度的高灵敏度响应。该产品可确保 ...
HORIBA STEC
... HORIBA 采用新型超微毛细管电极对其pH 测量技术进行二次研发。HORIBA 的 UP-100 系列提供仅 500 uL/单次测量的超低样品消耗，支持对包括半导体（清洗、刻蚀和电镀）、化学制造、生物、制药、食品加工等在内的各种关键制程进行连续的 pH 监控。 设计连续运行时间 6 个月，无需操作人员干预，有效的减少停机时间 样品消耗量仅为 500 μL/分钟，最大消耗量 30 mL/小时 实时测量 测量间隔为一分钟 配备用于自动校正和补充 ...
HORIBA STEC
... CS-100 系列为半导体制程各种清洗和刻蚀工艺的药液提供完整的、高精度的化学药液浓度计。除高速响应和紧凑设计等特点外，浓度计还可实时测量每种组分的浓度，通过报警提醒化学药液变化和自动供应的时间。具备执行短周期测量的能力，可准确检测浓度变化。 实时跟进浓度信息 全自动测量 顺序测量期间采取综合措施消除气泡影响 采用 24V 直流电源，具有更高的安全保障 重量轻，设计紧凑 更高的产能 符合 RoHS 标准 ...
HORIBA STEC
... 从而推动半导体制造工艺的发展。 HORIBA Advanced Techno, Co.(以下简称 "HORIBA 先进技术"）发布了新型 CS-1000 化学溶液监测 系统。 CS 系列分析仪可实时测量半导体制造过程中使用的化学品浓度，自 1995 年推出以来已满足了该行业近 30 年的需求。 CS-1000 是一款性能更强的独立 系统，采用独特的算法（专利申请中*2），结合吸光度、*3 电导率和 pH 值分析，无需任何预处理，即可检测化学溶液中痕量（ppm*1 ...
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