Hitachi/日立分析显微镜

倍率: 3,000,000 unit
空间分辨率: 0.8, 0.4, 1.2 nm

超高分辨率场发射扫描电子显微镜 SU9000 专门为电子束敏感样品和需最大300万倍稳定观察的先进半导体器件，高分辨成像所设计。 • 新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能。 0.4 nm / 30 kV (SE) 1.2 nm / 1 kV (SE) 0.34 nm / 30 kV (STEM) • 用改良的高真空性能和优异的电子束稳定性来实现高效率截面观察。 • 采用全新设计的Super E x B能量过滤技术，高效，灵活地收集SE ...

倍率: 20 unit - 2,000,000 unit
空间分辨率: 0.9, 0.8 nm

超高分辨肖特基场发射扫描电子显微镜SU8700 随着快速数据采集和数据处理技术的发展，电子显微镜进入了一个不仅重视数据质量，而且注重其采集过程的时代。SU8700作为一款面向新时代的SEM，在日立电镜贯有的高图像质量和高稳定性的基础上，增加了包括自动获取数据等高通量的功能。 超高分辨观察和超强分析能力 日立的高亮度肖特基场发射电子枪可同时支持超高分辨观察和快速微束分析。在不使用样品台减速的情况下，仅用0.1 ...

倍率: 20 unit - 2,000,000 unit
空间分辨率: 0.7, 0.6 nm

超高分辨场发射扫描电子显微镜 SU8600系列 随着快速数据采集和数据处理技术的发展，电子显微镜进入了一个不仅重视数据质量，而且重视其采集过程的时代。SU8600系列秉承了Regulus8200系列的高质量图像、大束流分析及长时间稳定运行的冷场成像技术，同时还大大提升了高通量、自动数据获取能力。 超高分辨成像 日立的高亮度电子源可保证了即使在超低着陆电压下，也可获得超高分辨的图像。 0.8 ...

倍率: 20 unit - 2,000,000 unit
空间分辨率: 0.9, 0.8 nm

... 低真空观察 • 超低温观察 • 实时观察 等所需的样品仓和真空系统都十分完备，观察方法也是一应俱全。 4.支持微纳解析 采用肖特基发射电子枪，最大束流可达到200 nA，适用于各种微纳解析。样品仓形状和接口设置支持EDX分析、EBSD、阴极荧光分析等，接口设备可通过选配附件满足各种特殊需求。 成像能力 追求信息最大化的检测系统 随着用户对样品数据的需求更加多元化，对检测系统在短时间内捕捉更多的信息提出了更高的要求。SU7000的检测系统可以在不改变WD等条件的前提下，更高效地获取形貌 ...

空间分辨率: 1.2 nm

... 1kV)＊ • 高灵敏度: 高效PD-BSD, 超强的低加速电压性能，低至100 V成像 • 大束流(>200 nA): 便于高效微区分析 性能优异 • 压力可变: 具有优异的低真空(10 -300 Pa)成像性能，配备高灵敏度低真空探测器(UVD)＊ • 开仓室快速简单换样(最大样品尺寸: Φ 200 mm x 80 mmH) • 微区分析: EDS, WDS, EBSD等等

倍率: 5 unit - 800,000 unit
空间分辨率: 15, 4, 3 nm

集优异性能、操作简便性、多样化功能于一身 日立高新推出的扫描电镜SU3800/SU3900兼具操作性和扩展性，结合众多的自动化功能，可高效发挥其高性能。SU3900标配多功能超大样品仓，可应对大型样品的观察。 ①SU3900标配多功能超大样品仓，可应对大型样品的观察 ■样品台可搭载超大/超重样品 • 通过更换样品提示，可防止由于与样品的接触而损坏设备或样品 • 选配样品交换仓，可在主样品仓保持真空的状态下快速更换样品，大大提高了工作效率 • 具备样品台移动限制解除功能,提高了自由度* • ...

倍率: 6 unit - 800,000 unit
空间分辨率: 4, 5, 15 nm

... 凭借全新设计的电子光学系统和高灵敏度检测器，可在加速电压20 kV下实现4.0 nm的分辨率。全新开发的用户界面，具有亮度和对焦自动调节功能，可以在短时间内进行各种观察。此外，还搭载了全新的导航功能“SEM MAP”，这个功能可弥补电子显微镜上难以找准视野的缺点，实现最直观的视野移动。 • 尽管是可放置在桌面上的小巧紧凑型*1电子显微镜，仍可实现4.0 nm的分辨率 • 凭借独特的高灵敏度二次电子、背散射电子检测器、低真空检测器（UVD*2），可在低加速/低真空下观察时实现最高的画质 • ...

倍率: 10 unit - 25,000,054 unit
重量: 54 kg
长度: 614, 617 mm

台式扫描电子显微镜(SEM)全新升级。 我们以“更高画质、更易于使用、更易于观察”为理念，开发出TM4000系列。在此基础上，我们又推出功能更为多样的TM4000Ⅱ系列。 为您提供全新的观察和分析应用。 观察图像3分钟。可迅速获得所需数据，并制作报告。 观察与分析的灵活性 自动获取各类数据。快速切换！ 可快速获得元素分布图 * 使用Camera ...

重量: 990 kg
宽度: 1,190 mm
高度: 1,800 mm

... 日立 NP6800 是基于 SEM 的专用探测系统，旨在满足 10 纳米及更高设计节点半导体器件的分析需求。 精密压电驱动致动器配备了 X、Y 和 Z 轴探针移动装置，可以非常精确地控制探针，以测量单个 MOS 晶体管的电气特性。 设计理念是创建一个易于使用的探测系统（如光学探测系统），同时通过我们直观的探头操作设计，即使在真空环境下也能保持同样的易操作性。 - 这种基于扫描电子显微镜的探测系统用于分析任何纳米级半导体器件制造过程中可能出现的缺陷和故障。 - ...

... 日立 NE4000 nanoEBAC 是一种基于电子束的探测系统，用于微电子器件互连、材料和元件的电特性分析、EBAC 分析和成像。 电子束吸收电流（EBAC）技术提供了一种快速有效的方法，无需直接探测低层，即可识别互连器件上的开路、高电阻和短路。 EBAC 技术通过电子束穿过电介质层到达低层金属化层，以吸收电子束电流。FESEM 的电子束加速电压可控制穿过介电层的探测深度或穿透水平。在暴露的上层金属化层上放置一个探针，以完成电路并让电子流过互连层。 通过使用双探针和日立专利的差分 ...