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... 概览
LEYBOLD OPTICS FLC series 为一系列卷对卷（roll-to-roll）高真空溅射沉积系统，面向研发与生产应用。该系列采用模块化设计，最多可配置六个旋转阴极，支持在单次通过中沉积金属与电介质多层膜系，提供650 mm、1600 mm、2000 mm等镀膜宽度选项。
主要优点
- 通过可选的相邻处理单元气体分离，实现一次通过沉积多层膜（混合金属/介电层），无需中间处理步骤。
- 配置灵活：最多6个旋转阴极、多个电源类型、原位测量系统、等离子体预处理以及可配置的卷绕系统，以适配多种基材与工艺。
- 快速切换应用：通过更换靶材与工艺配方，在不作重大硬件改动的情况下实现工艺切换，适用于研发与试产。
突出特点
- 多用途性：支持直流（DC）、直流单极脉冲、直流双极脉冲及中频（MF）电源，适用于反应性与非反应性溅射。
- 颗粒控制与工艺稳定性：采用sputter-up阴极方向设计、涡轮分子泵与冷阱、温控镀膜转鼓（标准
... 概述
Bühler 的 HELIOS 溅射镀膜机专为高精度薄膜光学镀膜而设计，适用于激光线、steep-edge 与陷波滤光片、激光与啁啾镜、偏振片、分束器、生物与 ADAS 传感器以及消费电子等领域。
主要优点
- 优越的膜层性能：优化的薄膜氧化、更高的膜层密度和更低的层损失，实现高激光损伤阈值、低散射和高反射率；支持超过 200 层或总厚度约 20 µm 的叠层。
- 卓越的工艺控制：基板上原位光学监控提供优异的工艺稳定性、高生产重复性以及超薄层的厚度精度。
- PARMS
... 概述
DEIMOS 5500 是一款用于精密光学的真空镀膜设备，基于磁控溅射工艺，专为在大型曲面天文镜上沉积铝或银的保护层/增反射层而设计，以实现高反射率、良好均匀性和耐久性。
主要优点
- 镀膜均匀 — 每个靶位的倾角与靶‑基材距离可电动调节，以适配曲面基材，形成均匀的 Al/Ag 保护或增反射层。
- 快速基材处理 — 腔室下半部分位于轨道上可移出机架，实现全面访问并加快基材更换。
- 电源模式灵活
... 空对空全连续镀膜生产线是一个完整的连续镀膜工艺流程，包括在大气环境中进行清洁预处理，然后基片（带材或线材）进入真空室进行金属膜沉积，最后通过缓冲室再次回到大气环境。 镀膜生产线的主要结构模块： A: 基质（带材或线材）清洗预处理模块 B: 冷却模块 C: 退火模块 D: 薄膜沉积室 E: 循环装置和真空缓冲室。 整条镀膜生产线的结构、操作和控制系统较为复杂，投资极高，但其产量高、生产成本低等优点使其对生产商极具吸引力。 1.涂层薄膜 1.1 导体金属Al、Cr、Cu、Ti、Zr、Ag、Au、Ni ...
... 新的最先进的PST生产线II是一个在线模块化系统，用于在不同的基底材料上进行稳定的、高质量的清漆和金属涂层。 它无与伦比的能力可以每小时自动处理7800件，同时保证在使用较少清漆的情况下始终保持优异的质量。它是对全世界包装制造商需求的经济和生态友好的回答。 PST Line II自动化涂布系统的优势非常明显：极大地节约了员工和材料成本，提高了产能，加快了转换速度，而且加工过程中没有操作员的变量。它为上光和金属化过程带来了更高的效率。 PST生产线II：一个完全可定制的系统 PST生产线II由几个模块集成在一起，取决于客户的要求。在Tapematic工程师的支持下，PST ...
TAPEMATIC S.p.A.
... G600MN 在线溅射系统是一种高产出系统，用于为装饰、耐磨增强、电磁屏蔽等各种三维物品镀膜。 该在线系统可连续运行 120 小时（三维镀膜载体的输出率为 15 秒）。 工程与技术 在线系统设计为模块化单端结构，以单通道模式连续运行。 它由多个腔室组成：载体装载/卸载腔室、锁定腔室、辉光放电腔室、磁控溅射腔室和载体旋转腔室。 带有支架的定制载体用于基片在在线系统内的线性运动。载体位置由所有腔室的光学传感器记录。 双室和双向自主辊道确保了载体的直接和逆向流动。 转向室用于将载体从直流路径传送到回流路径。 辉光放电装置用作预处理源。 涂层沉积由直流平面溅射磁控管提供。 可调节的斜磁控管位置和工艺室中的基片旋转确保了涂层的均匀性。 泵站由涡轮分子泵组成。 控制系统可对载体运输和整个工艺流程进行全自动监控。 在线系统与塑料成型和基片上光的流水线兼容。 ...
... 倒置圆柱形磁控溅射，或称ICM溅射，是一种专利的薄膜沉积技术，无论基片的几何形状如何，都能以出色的均匀性涂覆薄膜。ICM溅射遵循与传统磁控溅射相同的工艺步骤。当来自生成的等离子体的带正电的离子与带负电的目标碰撞时，原子被喷射或溅射到基片上，形成一层薄膜。 典型的磁控溅射配置使用平面阴极，而ICM溅射使用圆柱形阴极。基片位于圆柱体内，圆柱形阴极不是向上或向下溅射，而是向基片内侧溅射。这种几何形状能够在三维或弯曲的基材上实现高度的均匀性，而不牺牲沉积率或增加旋转的工艺步骤。 对于需要在弧形、三维或复杂基材上进行均匀涂层的应用，倒置圆柱磁控溅射是一个很好的选择。ICM溅射提供了精密光学所需的可重复性，并为镜头和其他弯曲表面的镀膜提供了一个更精简的过程。通常情况下，你需要增加旋转或行星运动以确保所有的面都被镀膜，但这降低了过程的速度并使镀膜过程变得复杂。通过一次对整个表面的溅射，ICM溅射减少了复杂性，同时实现了更严格的均匀性和控制。 除了精密光学，ICM溅射还为医疗设备涂层提供了非常高的厚度均匀性，如植入物。为了保护病人的安全，可靠性对于这些应用是至关重要的。 ...
Denton Vacuum
... 中频MF磁控溅射系统 产品说明 系统摘要 多弧离子和溅射涂层可以以多种颜色进行沉积。在沉积过程中，通过将反应性气体引入腔室，可以进一步增强颜色的范围。装饰性涂层最广泛使用的活性气体是氮气、氧气、氩气或乙炔。产生的装饰性涂料在一定的颜色范围内，取决于涂层中金属与气体的比例和涂层的结构。这两个因素都可以通过改变沉积参数来改变。 在沉积之前，要对零件进行清洗，使其表面没有灰尘或化学杂质。涂层过程开始后，所有相关的工艺参数都由计算机自动控制系统连续监测和控制。 - 基板材料：玻璃、金属（碳钢、不锈钢、黄铜）、陶瓷、塑料、珠宝。玻璃、金属(碳钢、不锈钢、黄铜)、陶瓷、塑料、珠宝。 - ...