克尔效应测量系统

激光光学工业用途

利用磁光克尔效应测量磁性材料的磁滞回线，可同时测量面内磁滞回线和垂直磁滞回线。 利用磁光克尔效应对铁磁性、人工反铁磁性、二维材料和微电子器件的磁性进行高精度表征。可同时施加面内磁场和垂直磁场，同时扫描面内磁化分量和垂直磁化分量，即同时获得面内磁场/垂直磁场-面内分量/垂直分量任意组合的磁滞回线。克尔旋转角的检测精度高达 0.3 mdeg（有效值），可检测单个原子层的磁化。还提供了一个绑线样品支架，用于表征电-磁-光特性。 该产品由公司自主研发，稳定性强，扩展性好，可提供定制服务；与同行业同类设备相比，磁场更大，精度更高，在不改变光路的情况下，可实现面内和垂直磁滞回线测量。激光自动对准，高智能软件支持。 作为高速、高精度、无损测量材料磁性的理想工具，该产品可为高端科研和企业生产研发提供更多选择和帮助。