PVD镀膜机 RT-CsI950

热蒸发金属化膜真空

X射线闪烁体（CsI）沉积系统，CsI高真空金属化机 CsI高真空沉积系统是专门为闪烁屏上的CsI金属化而设计的，在极高的真空环境下。CsI闪烁体的厚度范围为200～600µm，具有高度均匀的厚度和亮度性能。 超高空间分辨率的成像。 响应速度快，成像更清晰。 类领先的边缘到边缘的图像区域。 光学吸收层或反射层。 病人X射线剂量低。 应用：用于安全检查和视察、高能物理教育、核辐射检测和医学成像：胸部检查、乳房X光检查、口腔内和全景检查。 应用的基材。TFT玻璃、光纤板、非晶碳板、铝板 1.效率。 RT-CsI950型采用双旋转机架结构。 最大尺寸基板的双倍容量。500 x 400mm。 2.可重复性和再现性。 通过高精确的参数控制系统。 自动化过程控制软件和程序。 用户友好的操作。 3.可靠性。 24/7天不间断运行。 Inficon膜厚控制器可在线监测膜厚。 温度控制精度：±1℃，多级设置，自动记录和控制温度数据 旋转架采用伺服电机设计，精度高，稳定性好。 4.安全性好。 高真空泵。磁悬浮分子泵，带有氮气吹气装置，避免危险材料暴露在空气中。 所有的电极都配备了安全保护套。