SPX 30 NC
特征
新一代SP30 NC是高孔径光学原件理想的抛光设备,抛光直径可达35毫米
本机的简单而有效的运动,保证最高的质量
在半径中心摆动
NC控制器。高达99个程序可以保存在内部存储器
加工工艺:标准工艺:橡胶膜技术与中央内部冷却。可选件:Hydrospeed技术与中央内部冷却
性能数据
上主轴转速高达2,500转每分钟
下主轴转速高达2,500转每分钟
工作范围直径:<35毫米
SPX 80 NC
特征
新一代SP80 NC是高孔径光学原件理想的抛光设备,抛光直径可达80毫米
本机的简单而有效的运动,保证最高的质量
在半径中心摆动
NC控制器。高达99个程序可以保存在内部存储器
加工工艺:标准工艺:橡胶膜技术与中央内部冷却。可选件:Hydrospeed技术与中央内部冷却
性能数据
上主轴转速高达2,000转每分钟
下主轴转速高达2,000转每分钟
工作范围直径:<80毫米