XY轴定位系统

旋转激光真空

8 站半导体晶圆指数仪 本系统专门设计用于在高温下对 2 ″ 或 3 ″ 半导体晶圆进行离子束处理。 它由一个带有高精度直流电源和分位系统的台式炉组成。分位系统可精确控制晶圆位置，并允许每次运行 8 个晶圆的批量处理。 晶圆旋转到加热器上，在离子束处理开始前几秒钟内进行加热。 温度由读取加热晶圆表面温度的光学高温计控制。 大接入端口允许连接离子束仪器。 炉子是一个完整的转钥匙系统，配备真空系统、惰性气体系统、分度伺服控制、温度控制和水冷系统。