MP-2型金相试样研磨抛光机配有双盘,可以两种不同速度完成研磨或抛光。左盘(预磨盘)的转速为450转/分,右盘(抛光盘)的转速为600转/分。采用双盘和不同的磨抛光材料,可实现粗磨、精磨、粗抛光和精抛光的过程。该机操作简便,使用经济。是工厂、科研院所、高校实验室理想的标本制备仪器。
主要规格:
磨盘直径 - 230毫米
抛光盘直径 - 200毫米
磨盘转速 - 450 rpm(左)600 rpm(右)可订购
发动机 - YC7124 370 W
尺寸 - 700 × 600 × 278毫米
重量 - 50公斤
工作电压 - 交流220伏,50赫兹