电子束平版印刷系统 JBX-3050MV

JBX-3050MV是一个可变形状的电子束光刻系统，用于45纳米至32纳米节点的掩模制作。它的尖端技术实现了高速度、高精度和高可靠性。这个电子束系统使用一个可变形状的50千伏的电子束和一个步进重复的平台。 特点 JBX-3050MV 是一个用于掩膜/网纹制造的电子束光刻系统，满足45至32纳米的设计规则。该系统的特点是通过高端技术实现高速、高精度和高可靠性的图案写入。