电子束平版印刷系统 JBX-3050MV

JBX-3050MV 是一种可变形状电子束光刻系统，用于制作 45 纳米至 32 纳米节点的掩膜。其尖端技术实现了高速、高精度和高可靠性。该电子束光刻系统采用可变形状的 50 kV 电子束和步进重复平台。 特点 JBX-3050MV 是用于掩膜/微粒制造的电子束光刻系统，符合 45 至 32 纳米的设计规则。该系统采用高端技术，具有高速、高精度和高可靠性的图形写入功能。