电子束平版印刷系统 JBX-3200MV
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产品规格型号
- 类型
- 电子束
产品介绍
JBX-3200MV 是一种可变形状电子束光刻系统，适用于 28 纳米到 22/20 纳米节点的掩膜制作。其尖端技术实现了高速、高精度和高可靠性。该电子束光刻系统采用可变形状的 50 kV 电子束和步进重复试样平台。
特点
该 EB 系统利用步进重复写入方法的优点，将写入剂量调制功能和叠加写入功能等各种功能结合在一起，从而可以支持下一代光罩和网罩图案化所需的各种修正。
日本和海外的自营光罩店和商营光罩店
(不公开客户名称）
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