双折射测量系统 Exicor® DUV series

Exicor® DUV和193 DUV系统测量深紫外波长的双折射。 2003年获得 "R&D 100 "奖的Exicor DUV系统是为评估氟化钙（CaF2）透镜材料在157纳米应用波长下的内在双折射而开发的。 随后的Exicor 193 DUV侧重于193纳米光刻系统中使用的各种材料，特别是要求最高质量光学器件的浸入式193纳米光刻系统。 这两个系统都满足了正在推动技术发展的精密光学材料制造商所要求的使用波长的测量原则。 Exicor DUV和193DUV系统是领先的光刻行业光学制造商使用的主要系统，用于在DUV光刻波长（157 nm、193 nm、248 nm）下测量透镜坯料和光罩坯料的双折射。 这些系统有一个坚固的框架和重型运动控制部件，用于测量400毫米X400毫米和200多毫米厚的光学器件。 Exicor DUV系统还在样品室中采用了独特的局部氧气置换系统，因为157纳米的紫外线会被氧分子吸收。 这种清洁的干燥氮气净化环境也能防止DUV样品室中产生臭氧。 193纳米和248纳米的测量不需要吹气。 这些系统的大型扫描平台还允许在平台上装载多个较小的部件，通过可选的Exicor Macro+软件执行自动程序来单独扫描每个部件。