PECVD镀膜机 DLC1500

概述
DLC1500是一款面向工业批量生产的大容量DLC镀层设备。该机将磁控溅射（MS）与PECVD技术相结合，可制备低摩擦、耐磨的Cr/WC/a-C:H类型DLC镀层，表面光滑且附着稳定。设备具有2 m³腔体容积、更大的有效镀层面积和1000 kg最大载重，适用于需要更高产能和稳定批次镀层能力的制造商。

主要优点

• 满足工业批量处理的大容量生产
• 低摩擦、耐磨的Cr/WC/a-C:H型DLC镀层
• 通过等离子清洗、过渡层沉积与DLC层沉积实现均匀镀层质量与可靠附着
• 自动化工艺控制、更大腔体与更高承载力保证稳定的连续生产

DLC1500 特性

• 典型镀层厚度：2–4 μm
• 镀层硬度：≈2500 HV
• 大面积镀层能力
• 稳定的批次生产
• 低摩擦系数

产品参数（表）
Model No.: DLC1500
Coating Technology: MS + PECVD
Etching: SET
Dimension: L4900 × W2000 × H2750 mm
Chamber volume: 2 m³
Effective Coating Area: Φ940 × 1000 mm
Coating Deposition Temperature: <200°C
Capacity: Made-to-order
Max Loading Weight: 1000 kg
Spindle Diameter: Max. Φ350 mm
Processing Time: 6–8 h

特性 / 技术规格

• Model No.: DLC1500
• Coating Technology: MS + PECVD（magnetron sputtering + PECVD）
• Etching: SET
• 外形尺寸（L × W × H）：4900 × 2000 × 2750 mm
• 腔体容积：2 m³
• 有效镀层面积：Φ940 × 1000 mm
• 镀层沉积温度：<200°C
• 典型镀层厚度：2–4 μm
• 镀层硬度：≈2500 HV
• 最大载重：1000 kg
• 主轴直径（最大）：Φ350 mm
• 处理时间：每批6–8小时
• 产能：按订单制造/可定制（工件尺寸、装载方式、夹具设计、镀层要求、生产能力、工厂布局）