产品概述Gasboard-2060 是一款基于 NDIR 技术的 SiF4 气体传感器,专为硅基 CVD 沉积腔体的腔体清洗终点检测(EPD)实时监测而设计。该传感器采用专用气室和光学系统,可对腔体清洗过程中的 SiF4 浓度进行选择性测量,并支持通过模拟和数字接口集成至工艺控制系统。Gasboard-2060 提供快速响应的数据输出,便于清洗终点判定与过程控制。
特点- 针对 SiF4 的 NDIR 检测优化。
- 快速响应(T90<2s),用于精确判断清洗终点。
- 低零点漂移、高重复性,测量结果稳定。
- 模块化紧凑设计,便于安装与维护。
- 模拟(1–10VDC)与数字(RS232)输出;采样口:KF16。
规格测量气体:SiF4
检测原理:NDIR(非分散红外)
量程:(0.0–0.2)Absorbance
响应时间:T90<2s
数据上报速率:0.5s
模拟输出:1–10VDC
电源输入:15VDC(≤300mA)或24VDC
数字通信:RS232
采样口:KF16
外形尺寸:200 × 120 × 75.5 mm
泄漏率:<1×10-8 Pa·m3/s(He)
工作温度:5~65 ℃
技术规格- 测量气体:SiF4
- 检测原理:NDIR
- 量程:(0.0–0.2)Absorbance
- 响应时间:T90<2s
- 数据上报速率:0.5s
- 模拟输出:1–10VDC
- 电源输入:15VDC(≤300mA)或24VDC
- 数字通信:RS232
- 采样口:KF16
- 外形尺寸:200×120×75.5 mm
- 泄漏率:<1×10-8 Pa·m3/s(He)
- 工作温度:5~65 ℃