平面度测量仪器 Tropel® UltraFlat 200

光学

特罗佩尔® UltraFlattm 200 掩膜系统专为照明屏行业而设计。 对于不断紧固的面膜平坦度规格，它可提供最低的测量不确定性。 收缩设备功能不仅需要扁平晶圆，还需要扁平面罩。 UltraFlattm 系统用于测量在制造和使用的每个阶段的光板和光罩的平坦度，包括基材抛光、涂层和图案来分析薄膜应力和验证。 UltraFLATM 系统利用近乎正常入射干涉测量、坚固岩石结构设计、最先进的光学制造技术和特罗佩尔著名的相移分析软件，提供 20 纳米测量不确定性。 该系统是国家标准与技术研究所 (NIST) 可追溯的，并提供符合 SEMI 标准的测量结果。 此外，还可提供自动化照明设备处理和测量配置。