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... 高性能露点冷却镜 我们的 MBW CALIBRATION™ MODEL 973L™ 露点冷镜分析仪采用全新设计，配备最佳响应注入系统，可实现快速测量。 它是首款包含镜面预冷功能的便携式分析仪，因此测量范围可扩展至露点/霜点至 -76 °C (1 ppmv)。与我们带有整体测量头的仪器一样，MODEL 973L 包括一个精度为 0.1% 的压力传感器，因此露点/霜点测量始终可以参考实际压力。 973L ...
Process Insights
... 半导体制造商需要有能力持续地实时验证工艺气体的纯度，并检测浓度低至万亿分之一（ppt）的微量污染。 监测广泛的气体和气体混合物，其稳定性可提供大多数应用所需的长期可重复性。 请咨询我们的APIMS SX5，它具有流交换器功能。 -用于监测超高纯度大宗气体的优雅气流切换。 实时、多品种监测所有的关键气体。 大宗电子气体中的杂质，包括微量O2、H2、H2O、CH4等、 H2, H2O, CH4, CO, CO2, N2, Ar等。 - 新的!可选的自动气流切换功能 与SX5气流切换器气柜。 在最多五种大宗气体之间自动循环! - ...
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... TIGER OPTICS™腔体环降光谱（CRDS）气体分析仪在工业气体、医疗气体和化学处理领域有着悠久的历史，能够检测工艺气流中的水分和其他无赖杂质，包括惰性气体、反应性气体、腐蚀性气体、大宗气体和特殊气体。 对于完整的分析仪器、应用、系统和服务选项，请联系我们。 我们将努力配合您的需求和预算，为您的应用提供最佳、最稳定的过程分析解决方案。 我们与竞争对手有什么不同 ...
Process Insights
... 通过我们新的TIGER OPTICS™ Prismatic 3™ 激光多品种痕量气体分析仪，我们提供了一个关键的工具，用于研究和工业环境中的各种应用，其中实时、在线气体监测是必不可少的。Prismatic 3 非常适用于燃料电池氢气纯度监测，贯穿整个氢气供应链--从生产到运输和储存到加气站。 这种基于CRDS的紧凑型分析仪可同时检测H2O、CO、CO2和CH4，检测范围从十亿分之一到百万分之一，以确保纯度要求符合SAE ...
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... 我们的新型EXTREL™ MAX300-RTG™ 2.0实时工业气体分析仪带有触摸屏，是一款用于过程控制、环境合规和环境空气监测的工业气体分析仪。 它采用最先进的四极杆质谱仪技术，对工业气体流进行连续的在线成分监测。 快速、准确的气体分析能够实现高精度的过程控制和提高生产效率。 简单直观的触摸屏界面，最大限度地便于使用 利用强大的工业质谱技术进行实时气体分析 ...
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... ，APIMS一直是在线检测气体混合物中低水平成分的研究和工业标准。我们的VeraSpec APIMS在半导体气体分析中采用了19毫米的三滤四级质量过滤器，具有最佳的性能、可靠性和正常运行时间。 业界最佳的大宗气体分析的低检测限（LDL）。 实时、多种类监测大宗气体中的所有关键杂质，包括微量O2、H2、H2O、CH4、CO、CO2、Xe等。 完善的、强大的质谱分析技术 ...
Process Insights
... 我们的COSA XENTAUR™ Zircomat™氧化锆气体分析仪被广泛使用；不仅在高能耗的行业，如钢铁、电力、石化、陶瓷、纸浆和造纸、食品和饮料、纺织等行业，而且在各种燃烧设施，如垃圾焚烧炉和中小型锅炉中，作为燃烧控制器，取得了显著的节能效果。氧气浓度控制确保了完全燃烧，从而减少了二氧化碳、硫氧化物和氮氧化物的排放，有助于防止全球变暖和空气污染。 益处 Zircomat氧化锆烟囱氧气气体分析仪的好处包括： ...
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... MBW CALIBRATION™ MODEL 373™ 露点冷镜分析仪已经测量湿度近20年了。基于操作经验和客户反馈的渐进式发展，意味着373继续超越一些最具挑战性的湿度应用和关键任务行业的数百名用户的期望。 尽管373的性能和规格很高，但它易于使用和维护。触摸面板的用户界面简单而直观，即使没有经验的用户也能成功地进行测量。由于使用了工业标准部件和对软件构建记录的仔细控制，即使是早期的仪器也仍然可以使用。 MODEL 373露点冷镜分析仪是一款高性能仪器，在测量露点温度和其他湿度相关参数方面具有多种优势 ...
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... 结构紧凑、价格合理的Spark H2O提供： 强大的、成熟的腔体环降光谱（CRDS）技术 自我调谐和自动校准 极低的拥有成本 以太网、4-20mA和RS-232连接 响应速度快，气体消耗少 H2O分析范围广：12 ppb到2000 ppm! 使用我们的可选附加包，从您的火花中获得更多： 速度+ 露点测量 线性拟合点 年度性能验证 ...
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... 新一代微量氯化氢气体分析仪 当你在设备最终测试阶段发现灾难性的产品性能或产量损失时，你可以花很长时间 "寻找 "空气中的分子污染物（AMC）；或者你可以部署我们的TIGER OPTICS™ T-I Max™ HCl分析仪来定位和监测这些看不见的缺陷产生者，这些缺陷通常潜伏在设备、人员、晶圆载体和洁净室托架内及周围。 在当今先进的半导体加工过程中，从各种材料、加速加工操作以及基片存储和运输中散发出来的残留气体、蒸汽和化学品已经成为一个关键的问题。以至于国际半导体技术路线图（ITRS）现在强调AMC ...
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