Materials Research Furnaces真空炉
{{product.productLabel}} {{product.model}}
{{#if product.featureValues}}{{product.productPrice.formattedPrice}} {{#if product.productPrice.priceType === "PRICE_RANGE" }} - {{product.productPrice.formattedPriceMax}} {{/if}}
{{#each product.specData:i}}
{{name}}: {{value}}
{{#i!=(product.specData.length-1)}}
{{/end}}
{{/each}}
{{{product.idpText}}}
{{product.productLabel}} {{product.model}}
{{#if product.featureValues}}{{product.productPrice.formattedPrice}} {{#if product.productPrice.priceType === "PRICE_RANGE" }} - {{product.productPrice.formattedPriceMax}} {{/if}}
{{#each product.specData:i}}
{{name}}: {{value}}
{{#i!=(product.specData.length-1)}}
{{/end}}
{{/each}}
{{{product.idpText}}}
温度: 0 °C - 1,750 °C
... 610 毫米) 20 英寸高 真空系统 热交换器可加快冷却速度 出色的温度均匀性 前后通道 负载能力大 用户友好的 HMI 计算机界面 可提供装载车和其他选件 箱体从正面装载,包含一个热区,其可用区域为 24 英寸 x 24 英寸 x 24 英寸,温度梯度为 +/- 10°C。棒状加热元件提供四面加热。加热元件具有出色的均匀性和使用寿命。炉腔由双层不锈钢焊接而成,并经过抛光处理,表面光洁,具有良好的 真空完整性。 炉腔端口允许辅助设备和传感器进入炉腔环境 ...
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温度: 0 °C - 2,300 °C
... 我们的底部装载烧结炉专门用于电子元件的高温烧结。循环过程包括气氛准备、加热、强制冷却和受控氧化。该炉的可用区域为直径 12 英寸 x 高 22 英寸(305 毫米 x 559 毫米),适合大批量加工。 该炉有两个炉室,底室用于装料和卸料、冷却和控制氧化,顶室用于高温烧结。两个炉室的气氛是隔离的,电动升降机将装料堆从底室移入加热室。 钽或钨热区的温度最高可达 2100°C。 高吞吐量的 10 英寸或 16 英寸扩散泵系统可处理产品加热过程中常见的负载排气问题。 直观的定制 HMI 界面自始至终运行完全自动化的循环。 一般规格 热区尺寸 ...
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温度: 0 °C - 2,300 °C
... 我们的 4 工位分度烧结炉是产量最高的炉型,专为电子元件的高温烧结而设计。可同时处理四个负载,形成半连续烧结工艺。 该炉的可用区域为直径 12 英寸 x 高 22 英寸(305 毫米 x 559 毫米),这种设计非常适合大批量加工。 该炉有五个炉室,包括一个装有传送机构的底部分度炉室、一个用于装料和卸料的炉室、一个用于加热的炉室、一个用于冷却的炉室以及最后一个用于控制氧化的炉室。正常运行时,所有炉室都相互隔离。 液压升降机和电动分度机构将装料堆从一个工位移到下一个工位。根据工艺参数的不同,该炉每 ...
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温度: 0 °C - 2,200 °C
... 可确保极佳的均匀性和使用寿命。 该炉配备了直观易用的计算机界面,可实现全自动运行。它提供数据采集、报警显示和记录、用于温度控制的无限配方配置文件、安全性、配置设置等功能。电脑是安装在控制台上的工业平板电脑,可抵御恶劣环境。 一般规格 氢气、惰性气体或 真空环境 出色的温度均匀性 网状或棒状加热元件 粗加工、扩散、涡轮或低温泵系统 可选配用于快速冷却的热交换器 用户友好的 HMI 计算机界面 腔室从正面装载,包含一个热区,其可用区域为 ...
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温度: 0 °C - 2,200 °C
... 包含一个热区,其可用区域为 14 英寸 x 14 英寸 x 28 英寸,温度梯度为 +/- 10°C。加热区由相同的网状或棒状加热板组成,提供四面加热。加热元件具有极佳的均匀性和使用寿命。炉腔由双层不锈钢焊接而成,并经过抛光处理,表面光洁,具有良好的 真空完整性。 炉腔端口用于安装辅助设备和传感器。热区防护罩安装在炉膛框架内,使热区在热循环过程中得到热膨胀。炉子前门为铰链式水冷门,可完全通向装料区。后盖可拆卸,便于维护。 选配的气体热交换器可快速冷却至室温。 炉子的装料放置在装料支撑轨道或炉盘上 ...
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温度: 0 °C - 2,200 °C
... 出色的温度均匀性 氢气、惰性气体或 真空气氛 粗 真空系统,可选扩散或涡轮泵系统 钨网加热元件,使用寿命长 带露点控制选项的氢气润湿系统 详细信息 炉室和热区 炉腔从正面装载,包含一个宽 6″ x 高 8″ x 深 10″ 的热区,温度梯度为 +/- 10°C。加热元件由 4 块钨网板组成,可加热负载的 4 个侧面,具有出色的均匀性和使用寿命。热区屏蔽安装在一个腔体框架中,允许热区在热循环过程中产生热量。 炉腔由双层不锈钢焊接而成,并经过抛光处理,表面光洁,具有良好的 真空完整性。 ...
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温度: 0 °C - 2,500 °C
... 带数据采集功能的人机界面控制系统 人体工程学设计,节省空间 TC 和高温计温度控制 涡轮泵系统 可提供湿氢系统 顶部装载,占地面积小 详细信息 炉腔和热区 顶部装载热区腔体呈圆柱形,由双层不锈钢制成。整个腔体经过焊接和抛光,具有 真空完整性和符合人体工程学的外观。 为传感器、 真空、气体、热区电源和视窗提供了许多腔室接口。标准热区由钨和钼(可提供不同材料)制成,有 7 层屏蔽层以减少功率损耗。试样放置在钨炉床上。加热元件的电源接头位于炉室底部,并采用水冷却方式。 该窑炉系统可在多种正压气体环境以及部分压力 ...
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温度: 1,650, 1,350 °C
... 、拉伸计和其他测试设备。水冷腔体具有 真空等级,可将样品环境与外部环境隔离。这样就可以在空气、惰性气体或 真空环境中将测试样品从室温加热到最高 1650 °C (3002 °F)。也可在高达 1350°C (2462 °F)的温度下进行氢气操作。 试验箱可安装在各种物理试验框架中。 工作压力:10-7 托至 2 P.S.I.G. 所有必要的端口和馈通孔,可容纳物理测试设备。 陶瓷热区,可提供不同材料。 均匀温度区。 提供各种热区尺寸,以匹配样品尺寸。 粗 真空或高 真空系统。 气体系统:惰性气体、氧化性气体或还原性气体 ...
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温度: 0 °C - 3,000 °C
... 工业 真空炉,钨热区的最高温度为 3000 °C(5432 °F),石墨热区的最高温度为 2200 °C(3992 °F)。可提供不同尺寸的热区和抽气系统。 基本型 真空炉标配抽 真空系统, 真空度可低至 10-2 托(mbar),惰性气体系统可在氩气环境下运行。 粗抽泵上的可选鼓风机可将工作压力降低到 10-3 托(毫巴)。扩散泵系统、涡轮泵系统和低温系统等高 真空系统可进一步将 真空室压力降低到 ...
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温度: 0 °C - 2,100 °C
... 我们的双工位烧结炉以我们的底部装料烧结炉为基础,但能够同时处理两种装料,在相同的占地面积内将吞吐量提高了一倍。我们的烧结炉广泛应用于电子行业,用于对电子元件进行高温烧结或热处理。循环包括气氛准备、加热、快速冷却和受控氧化。 双工位炉可同时处理两个负载,在热室中加热一个负载,同时在底室中冷却第二个负载。 该炉的可用区域为直径 12 英寸 x 高 22 英寸(305 毫米 x 559 毫米),适合大批量加工。 该炉有两个炉室,底室用于装料、卸料、冷却和控制氧化,顶室用于烧结。两个炉室的气氛都是隔离的。电动升降机将装料堆从底室移入加热室。 钽或钨热区的温度最高可达 ...
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