Materials Research Furnaces硬焊炉

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甑式转炉炉
甑式转炉炉

温度: 0 °C - 2,200 °C

... 我们广受欢迎的中型热处理炉包含一个 1 立方英尺(28 升)的可用区,温度最高可达 2200°C,并可配备多种选件。 所示设备配有涡轮增压系统和人机界面计算机接口包。其他选件包括氢气、扩散和低温泵系统、用于气体快速冷却的热交换器、高温计等。我们可根据您的具体需求定制窑炉。 热区采用钨棒或网状加热元件,可确保极佳的均匀性和使用寿命。 该炉配备了直观易用的计算机界面,可实现全自动运行。它提供数据采集、报警显示和记录、用于温度控制的无限配方配置文件、安全性、配置设置等功能。电脑是安装在控制台上的工业平板电脑,可抵御恶劣环境。 一般规格 ...

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室式炉
室式炉

温度: 0 °C - 2,200 °C

... 我们的大型热处理炉有一个 3 立方英尺(84 升)的可用区,与我们的其他热处理炉一样,最高温度可达 2200°C。 它的负载极限为 800 磅(364 千克),具有很高的负载能力。图中所示设备配有 16 英寸扩散泵系统和用于快速冷却的气体热交换器。 热区采用钨、钼或钽网状或棒状加热元件,确保极佳的均匀性、使用寿命和产品兼容性。 该炉具有高负载能力和大尺寸,专为生产或加工大批量产品而设计。 炉腔从正面装载,包含一个热区,其可用区域为 14 英寸 x 14 英寸 x 28 英寸,温度梯度为 +/- ...

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室式炉
室式炉

温度: 0 °C - 1,750 °C

... 我们的超大型热处理炉有 8 立方英尺的可用区域,最高温度可达 1750 °C(3200 °F)。它具有高负载能力、16 英寸或 20 英寸扩散泵系统以及用于快速冷却的气体热交换器。 热区由钨、钼或钽棒状加热元件制成,具有出色的使用寿命、刚性、均匀性和产品兼容性。 炉腔设有前后检修门,便于装料和维护。 还可提供装料车,方便操作大型和重型货物。 一般规格: 24″ x 24" x 24″ 可用热区(610 毫米 x 610 毫米 x 610 毫米) 20 英寸高真空系统 ...

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室式炉
室式炉

温度: 0 °C - 2,500 °C

... 这种多功能顶部装载式实验室炉允许在最高 2500°C 的温度下完全可编程的大气条件,为您提供了研究、测试和开发材料或工艺的工具。 它还可用作批量生产炉,具有可重复、精确和可记录的加工特点。顶部装载配置具有出色的热均匀性,是一种经过验证的经济型设计。这种实验室炉广泛应用于世界各地的大学、学院和实验室。 一般规格 工作压力:1×10-7 托(毫巴)至 2 P.S.I.G.(0.14 巴) 出色的温度均匀性 提供多种热区尺寸和材料 带数据采集功能的人机界面控制系统 人体工程学设计,节省空间 TC 和高温计温度控制 涡轮泵系统 可提供湿氢系统 顶部装载,占地面积小 详细信息 炉腔和热区 顶部装载热区腔体呈圆柱形,由双层不锈钢制成。整个腔体经过焊接和抛光,具有真空完整性和符合人体工程学的外观。 为传感器、真空、气体、热区电源和视窗提供了许多腔室接口。标准热区由钨和钼(可提供不同材料)制成,有 ...

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烧结炉
烧结炉

温度: 0 °C - 2,100 °C

... 我们的双工位烧结炉以我们的底部装料烧结炉为基础,但能够同时处理两种装料,在相同的占地面积内将吞吐量提高了一倍。我们的烧结炉广泛应用于电子行业,用于对电子元件进行高温烧结或热处理。循环包括气氛准备、加热、快速冷却和受控氧化。 双工位炉可同时处理两个负载,在热室中加热一个负载,同时在底室中冷却第二个负载。 该炉的可用区域为直径 12 英寸 x 高 22 英寸(305 毫米 x 559 毫米),适合大批量加工。 该炉有两个炉室,底室用于装料、卸料、冷却和控制氧化,顶室用于烧结。两个炉室的气氛都是隔离的。电动升降机将装料堆从底室移入加热室。 钽或钨热区的温度最高可达 ...

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室式炉
室式炉

温度: 0 °C - 2,300 °C

... 我们的 4 工位分度烧结炉是产量最高的炉型,专为电子元件的高温烧结而设计。可同时处理四个负载,形成半连续烧结工艺。 该炉的可用区域为直径 12 英寸 x 高 22 英寸(305 毫米 x 559 毫米),这种设计非常适合大批量加工。 该炉有五个炉室,包括一个装有传送机构的底部分度炉室、一个用于装料和卸料的炉室、一个用于加热的炉室、一个用于冷却的炉室以及最后一个用于控制氧化的炉室。正常运行时,所有炉室都相互隔离。 液压升降机和电动分度机构将装料堆从一个工位移到下一个工位。根据工艺参数的不同,该炉每 ...

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室式炉
室式炉

温度: 0 °C - 2,000 °C

... 这种晶体生长炉可采用布里奇曼法、佐赫拉尔斯基法或斯捷潘诺夫法生产实验室大小的晶体。这种技术可用于生长半导体材料(硅、锗和砷化镓)、金属、盐类和合成宝石的单晶体。 拉速可调,控制精度低至 0.001 英寸/分钟(0.025 毫米/分钟)。(0.025 毫米/分钟)。另外还配有一个独立的电机,用于旋转 3/8 英寸的籽杆。 我们的晶体生长选件还可安装在使用顶部炉腔端口的特定前装载 MRF 炉上,例如我们的多功能实验室炉或特定电弧熔化炉。 一般规格 用于使用布里奇曼、佐赫拉尔斯基或斯捷潘诺夫方法进行晶体生长 可调拉速低至 ...

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坑式炉
坑式炉

温度: 2,200, 3,000 °C

... 由于采用了高效的石墨隔热包,我们的小型实验室高温炉能够在惰性气体中以 3000 °C 的温度运行,且耗电量不大。4 英寸直径 x 8 英寸高(101 毫米 x 204 毫米)的热区适合在超高温下进行小批量加工或材料研究。也可以在真空中运行,但温度限制在 2200°C,以最大限度地延长加热元件和屏蔽的使用寿命。 通过人机界面(可选)进行操作,直观易学。缩回温度热电偶用于低温控制。RTC 会自动缩回,并在预设温度设定点时将控制权切换到高温计。 应用包括:烧结、碳纤维加工、碳化、陶瓷烧制、脱气、热处理等。 规格 顶部装载,带铰链盖。 石墨区(可提供钨热区)。 +/- ...

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管状炉
管状炉
3000C Tube

温度: 0 °C - 3,000 °C

... 这种石墨管炉可以水平或垂直位置操作,最高工作温度可达 3000°C。 石墨管直径为 4 英寸,可加热长度为 8 英寸或 12 英寸。这种超高温炉是研究和开发的绝佳工具。 可选配马弗管,用于在氧化或磨蚀环境中进行加工,最高温度可达 1750°C。 常见应用包括退火、钎焊、陶瓷烧制、脱气、石墨化、碳化、熔化和烧结。 规格 一般规格 垂直或水平装载配置。 可用工作区(负载)直径 4 英寸 x 长 12 英寸(100 x 300 毫米)或 4 英寸 x 8 英寸(100 x 203 毫米) 全石墨热区,带石墨加热元件和防护罩。 真空抽排和惰性气体系统。 经济型 ...

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室式炉
室式炉

温度: 0 °C - 3,000 °C

... 我们的 3000°C 顶部装载石墨炉有一个近 2 立方英尺的工作区,可以满足您所有的超高温要求。石墨热区在惰性气体中的额定工作温度为 3000°C。在真空中的工作温度限制在 2200°C,以最大限度地延长加热元件和防护罩的使用寿命。 这种批量炉具有可重复、精确和可记录处理过程的特点。顶部装载配置具有出色的热均匀性,是一种经过验证的经济型设计。检修盖为气动操作,便于检修。 一般规格 20 英寸直径 x 16 英寸高的元件(508 毫米 x 406 毫米) 顶部装载,带气动盖升降装置 石墨加热元件和热屏蔽 可提供更小尺寸 用于温度测量的光学高温计和可伸缩热电偶 详细信息 炉膛和热区 炉膛为圆形,配有气动顶盖。顶部隔热层与顶盖相连,便于装卸。炉腔为双层壁,由不锈钢制成,经过电抛光处理,干净、光亮、耐用。顶盖可气动掀起,便于完全进入热区。炉室的所有部件都是水冷却的。 在石墨型区域,我们采用了具有出色绝缘价值的纤维状石墨绝缘材料。电阻加热石墨加热元件环绕工作区。该元件的电源通过一组六个独特的锥形石墨针脚提供,无需螺纹连接。消除石墨螺纹大大简化了设计,减少了更换元件的停机时间。 ...

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