自动磨光器

功率: 60 W

... Qpol GO研磨抛光头是自动样品制备的完美入门，可与单盘和双盘研磨抛光机Qpol 250 M1 / 2和Qpol 300 M1 / 2结合使用。 既定技术, 简单结构 和 直观操作理念 可实现简单快速的制备步骤。研磨/抛光压力（单点压力）和制备时间可以通过直接在研磨抛光头上的相应旋转控制来连续调节。由于LED照明和特别纤细的设计，抛光头的工作区域很容易接近和看到。 该设备可与定量滴液瓶Qdoser ONE结合使用，该瓶可拧在抛光头上或使用Qdoser ECO加液系统，为样品制备和操作方便提供最大的灵活性。经过适当的准备，Qpol ...

转速: 30 rpm - 600 rpm
功率: 1.8 kVA
直径: 300, 250 mm

Qpol 300 M1是一款手动单盘磨抛机，工作盘尺寸Ø 250/300 mm. 在综合了人体工程学的触屏上，所有的过程参数以及便于手动操作的功能都清晰地显示出来并可以随时进行方便的更改。所有的过程参数都可以保存为制备方法。可调节的定时器和用于可视化当前磨抛压力的扭矩显示使得手动制备步骤也极为舒适和具有重现性。当制备开始或结束时，水阀自动打开/关闭。 甩干功能（加速清洁) 在制样过程结束时以750rpm的转速旋转3 秒钟，有助于磨抛盘脱水，之后自动关闭设备。极为强劲的、速度可控的驱动使得该型号适用于所有的制备步骤和材料。此外，工作盘可以顺时针/逆时针旋转。 ...

转速: 30 rpm - 600 rpm
功率: 2.3 kVA
直径: 200, 250 mm

... Qpol 250 A1-ECO是一款自动单盘磨抛机，工作盘直径为200/250mm，通过4.3英寸的触摸屏进行便捷的操作。 新的工作盘装配系统（整盘设计）使得无需承载底盘即可提供全面的性能。控制软件可以编辑和储存多达200种制备方法，并通过用户账号管理进行保护。 压力、转速和旋转方向（磨抛头和工作盘）均可调节。磨盘脱水旋转功能（清洁加速）在制样过程结束时以750rpm的转速旋转3秒钟，有助于磨抛介质甩干。 坚实的设备可以结合加液系统Qdoser ECO或Qdoser ONE使用，为用户的制样和操作便利性提供最大的灵活性。 优点 • ...

转速: 50 rpm - 600 rpm
功率: 3.2 kVA
直径: 300, 200 mm

... Saphir 550（Rubin 520）是新一代的单盘磨抛机，它采用创新 的磨抛头，工作盘直径为200-300 mm。 Rubin 520磨抛头配备了一个自动防护罩，为安全操作设定了新 标准。单点力和中心力加载、程序存储、集成的自动 加液系统及材料磨削量精确控制只是其部分功能。 带气动夹持的电动高度设置功能，结合主机的所有其他特征，saphir 550满 足最高的制样需求。磨削深度可以按照0.01 mm的精度预设，并在制样过程中全自动测量。在达到预设值时，制样过程会自动停止。 优点 • ...

转速: 50 rpm - 600 rpm
功率: 5.5 kVA
直径: 200, 300 mm

... Saphir 560（Rubin 520）是新一代等径双盘磨抛机，它采用创新 的磨抛头，工作盘直径为200-300 mm。 Rubin 520磨抛头配备了一个自动防护罩，为安全操作设定了新 标准。单点力和中心力加载、程序存储、集成的自动 加液系统及材料磨削量精确控制只是其部分功能。 带气动夹持的电动高度设置功能，结合主机的所有其他特征，saphir 550满 足最高的制样需求。磨削深度可以按照0.01 mm的精度预设，并在制样过程中全自动测量。在达到预设值时，制样过程会自动停止。 优点 • ...

功率: 0.3 kVA
直径: 380, 300, 305 mm

... Qpol Vibro (Saphir Vibro)振动抛光机为得到无残留变形的试样制备表面而设计。它是进一步材料表征的理想选择，例如：EBSD（背散射电子衍射），AFM（原子力显微镜）分析和纳米压痕或显微硬度测试的理想前序设备。 由于极为温和的材料去除，该设备特别适用于软质和韧性材料，如钛铝，纯铜和铜合金，铝合金，钢和镍基合金。 直径Ø= 308mm的大抛光池提供了足够的空间来抛光填充满试样的夹具或大型试样，可同时抛光多达21个镶嵌试样。 抛光池配备有双磁性系统，可以快速固定、移除和清洁底槽或抛光布，无须任何工具或其它的附件。可使用适合磁性系统的直径为300mm或305mm ...

直径: 30 cm - 75 cm