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... 本机采用 O2 处理，去除杂质，如 CH4、CO、CO2 和 H2O。 它们用于化学、光纤、核工业和实验室。 提供的出口杂质水平为 1 ppm。 其原理是催化 + 吸附。 进料气体在高温下通过一种非常特殊的催化剂，这样碳氢化合物，H2 和 CO 可以转化为二氧化碳和水，然后通过吸附层吸附。 ...
... 此气体净化器单元从 SERTRONIC 工作在气体处理 02 和空气。 它能够去除杂质 CH4、CO、CO2 和 H20，出口杂质水平为 1ppa。 该装置的工作原理是催化 + 吸附。 进料气体在高温下通过一种特殊的催化剂，以转换水中和二氧化碳中的碳氢化合物、H2 和 CO，可通过吸附层去除。 该单位在化学工业、实验室、半导体工业和光纤工业中特别有用。 ...
... Puregas系统。 - 在铂金催化剂上催化转化碳氢化合物。 - 吸附性地去除氧化铝上的微量水分和二氧化碳。 - 在分子筛中对气体混合物进行后净化和分离 - 去除铜催化剂上惰性气体中的微量氧气。 - 用getters去除微量杂质 - 压力摇摆清除空气中的水分和二氧化碳。 ...
空气流量: 60, 300 l/min
输出功率: 800 W
... 连续运行的氢气净化系统 HCPS是由两个H2-气体净化器单元和相关的加热器和传感器整合而成，用于自动气体净化。该产品被设计用于在环境温度下净化氢气。电源故障不会影响净化器床去除污染的可行性。 污染物，如水分、氧气、一氧化碳、二氧化碳和非甲烷化碳氢化合物，通过化学吸附和氧化作用从氢气中清除到亚ppb水平。净化器介质是无机镍硅石的特定混合物。 一个双床系统被用来保持连续流动。一个净化床是在线的，而另一个处于再生或待机模式。在重新激活过程中，再生床被加热，少量纯化的氢气逆流通过床。这将驱除所有污染物，并使床层准备好净化氢气。当床层返回到环境温度时，它被置于待机模式，并准备在序列完成后重新上线。整个再生循环是由SPS控制的。 设计用于取代Pd-扩散气体净化器或单向滤芯系统 去除氢气中的水分、氧气、碳氧化物和其他物质 连续运行，无需更换过滤器或打开管道 残留的氧气和湿气低于1ppb（9N）。 不使用Pd扩散膜进行操作 对电源故障不敏感 对不稳定的气体质量不敏感 ...
空气流量: 0.5 l/min - 2,000 l/min
... 去除的杂质包括 H2O、CO、CO2、O2、H2、NMHC、酸、碱、有机物和耐火化合物。 在大多数情况下，这些气体中的杂质减少到不到十亿分之一。 ...
SAES Pure Gas
这种基于吸气剂的净化装置专为气相色谱(GC)和其他分析应用中的载气净化而设计。PureGas可以将氧气、水分、一氧化碳、二氧化碳、氢气、甲烷和氮气的输出杂质浓度降低到ppb（十亿分级）甚至更低。获得专利的吸气剂合金在更高温度下运行，通过形成不可逆的化学链将杂质除去。只要净化器在规格参数范围内运行，那么这些杂质在任何情况下都不会被释放出去。 基于吸气剂的净化器优势 PureGas专为惰性样气的进一步净化而设计，最低纯度可达百万分之10(ppm)以下。 运行稳定 PureGas的深蓝色阳极氧化外壳可以维持45oC ...
... ErreDue公司设计和制造了一系列的气体净化设备，由发电机或外部资源产生。通过持续的PLC过程监控，净化使用户拥有安全和保证的气体质量。 气体净化使你可以回收和再利用通常散布在大气中的工艺气体，大大节省了成本，并快速摊销了机器。 使用ErreDue气体净化器，你可以净化和再利用以下气体。 氢气 - 氩气 - 氧气 - 氮气 - 天然气等。 ErreDue公司的气体净化器可以通过ErreDue公司的远程协助服务进行远程监控，并有可能提供在线服务。 ...
空气流量: 10 l/min - 500 l/min
... 氩气和其他工业气体的DAPOS净化装置。 DAPOS是一系列自主装置，设计用于氩气、氦气、氮气和氢气等工业气体的精细净化和干燥。它设计用于吸收和光学发射光谱仪，以及其他使用惰性气体的设备。 在CRL、ICP和微波放电光谱仪中用作等离子体气体。 作为色谱中的载气。 作为保护介质。 在电弧、等离子或激光焊接中。 在锗或硅晶体生长中。 在半导体制造中。 这些装置是全面净化气体的有效手段，可用于解决密封室(箱)、处理装置和房间中需要纯净惰性介质或给定气体成分的各种研究和生产任务。 ...
空气流量: 200, 500, 1,000, 1,500, 2,000 l/min
... - 要求高和/或外壳体积大 - 专注于工业应用 - 与客户控制系统的接口 - 模块化结构 - 溶剂收集器 - 高达220m³的外壳容积 - OLEDs/有机电子 - 增材制造 - 电池 - 焊接技术 ...
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