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氢气体净化器
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... 氢气净化器 Sertronic D型 气体处理 - 氢气 去除杂质 - O2, H2O (其他可能性按需而定) 出气口杂质水平 - 1 ppm 原理 - 催化(脱氧)+吸附 进料气体通过一个特殊的催化剂,将2H2 + O2→2H2O转化。然后,水通过吸附剂层被吸附。 用途 半导工业、工业气体工业、金属工业、玻璃工业、食品工业、发电厂、超纯位置的营养素净化。 ...
SERTRONIC
... EF 系列由 Sentronic 制造,是专门开发用于纯化氢氦的氢气净化器。 它具有清除多种气体的能力,其中包括 N2、Ar、O2、CO、CO2、以及 THC。 其额定出口杂质水平为 < 1ppm。 ...
SERTRONIC
... 减子 D 型是来自 Sertronic 的氢净化器。 它能够在 1 ppba 的水平去除二氧化碳、二氧化碳、二氧化碳、H2O 杂质。 进料气体通过催化剂,将氧转化为 H2O。 CO,使用吸附层去除 CO,CO2 和 H2O。 它通常用于半导体行业,焊接气体,冶金行业,以及玻璃行业 ...
SERTRONIC
... 描述和应用 生产高纯度氢气达 95% 或 99.9%. 该封装包括 2× 100% 过滤器、膜(95% 纯度)、分子筛(99.9% 纯度)和储罐,配备自动化和 PLC 系统。 pplical: • 能源 • 化学 • 石油和天然气 • 制药 • 重工业 • 加工工业 • 海上 • 研发 • 实验室 • 纯氢用于能源和化学目的 附加商品信息氢气净化 器是一种从碳氢化合物中净化氢气的装置或其他来源,当 PEM 燃料电池等应用需要超高纯化氢时。 该封装包括 2× ...
空气流量: 60, 300 l/min
输出功率: 800 W
... 连续运行的氢气净化系统 HCPS是由两个H2-气体净化器单元和相关的加热器和传感器整合而成,用于自动气体净化。该产品被设计用于在环境温度下净化氢气。电源故障不会影响净化器床去除污染的可行性。 污染物,如水分、氧气、一氧化碳、二氧化碳和非甲烷化碳氢化合物,通过化学吸附和氧化作用从氢气中清除到亚ppb水平。净化器介质是无机镍硅石的特定混合物。 一个双床系统被用来保持连续流动。一个净化床是在线的,而另一个处于再生或待机模式。在重新激活过程中,再生床被加热,少量纯化的氢气逆流通过床。这将驱除所有污染物,并使床层准备好净化氢气。当床层返回到环境温度时,它被置于待机模式,并准备在序列完成后重新上线。整个再生循环是由SPS控制的。 设计用于取代Pd-扩散气体净化器或单向滤芯系统 去除氢气中的水分、氧气、碳氧化物和其他物质 连续运行,无需更换过滤器或打开管道 残留的氧气和湿气低于1ppb(9N)。 不使用Pd扩散膜进行操作 对电源故障不敏感 对不稳定的气体质量不敏感 ...
空气流量: 0 l/min - 50 l/min
... SAES 纯气微通道钯净化器生产超高纯度的氢气(99.9999999%)。 所有净化器均采用专利微通道钯膜技术,去除所有杂质,使其达到每万亿分的水平。 紧凑型 PS7-PD05 净化器是低流速大学、实验室和工业应用的理想选择。 氢净化器可安装在压缩气缸或发电机的下游。 ...
SAES Pure Gas
Xebec Adsorption
这种基于吸气剂的净化装置专为气相色谱(GC)和其他分析应用中的载气净化而设计。PureGas可以将氧气、水分、一氧化碳、二氧化碳、氢气、甲烷和氮气的输出杂质浓度降低到ppb(十亿分级)甚至更低。获得专利的吸气剂合金在更高温度下运行,通过形成不可逆的化学链将杂质除去。只要净化器在规格参数范围内运行,那么这些杂质在任何情况下都不会被释放出去。 基于吸气剂的净化器优势 PureGas专为惰性样气的进一步净化而设计,最低纯度可达百万分之10(ppm)以下。 运行稳定 PureGas的深蓝色阳极氧化外壳可以维持45oC ...
... ErreDue公司设计和制造了一系列的气体净化设备,由发电机或外部资源产生。通过持续的PLC过程监控,净化使用户拥有安全和保证的气体质量。 气体净化使你可以回收和再利用通常散布在大气中的工艺气体,大大节省了成本,并快速摊销了机器。 使用ErreDue气体净化器,你可以净化和再利用以下气体。 氢气 - 氩气 - 氧气 - 氮气 - 天然气等。 ErreDue公司的气体净化器可以通过ErreDue公司的远程协助服务进行远程监控,并有可能提供在线服务。 ...
空气流量: 10 l/min - 500 l/min
... 氩气和其他工业气体的DAPOS净化装置。 DAPOS是一系列自主装置,设计用于氩气、氦气、氮气和氢气等工业气体的精细净化和干燥。它设计用于吸收和光学发射光谱仪,以及其他使用惰性气体的设备。 在CRL、ICP和微波放电光谱仪中用作等离子体气体。 作为色谱中的载气。 作为保护介质。 在电弧、等离子或激光焊接中。 在锗或硅晶体生长中。 在半导体制造中。 这些装置是全面净化气体的有效手段,可用于解决密封室(箱)、处理装置和房间中需要纯净惰性介质或给定气体成分的各种研究和生产任务。 ...
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