升华作用炉

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室式炉
室式炉
HTF series

温度: 1,700, 1,600, 1,800 °C
容量: 64 l - 514 l
宽度: 1,000 mm - 7,800 mm

... HTF系列包括1600℃、1700°C和1800°C的型号。所有型号均为硅钼棒加热。 HTF工业炉的可用容积为64、128、165、250、332和514升。可独立过温保护作为无人值守操作的标准配置。 在空气中进行热处理,可以提供额外的气体供应,包括手动阀和转子流量计。在系统未密封时抑制氧气含量,导致轻微的气压变化。因此,HTF是烧结陶瓷和氧化物陶瓷的理想选择。 烧结工艺前如果需要排胶,卡博莱特盖罗的HTF炉可提供排胶装置。排胶装置包括:新鲜空气预热装置、空气导流孔以及尾气燃烧火炬。预热后的空气通过导流孔持续不断地进入炉膛,保证低温段的温度均匀性,样品能充分接触到气流。排胶中产生的废气,经尾气燃烧火炬催化后排放。尾气燃烧火炬需用到丙烷和压缩空气。排胶结束后,炉子继续升温至烧结温度。 应用实例 annealing, ...

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Carbolite Gero
管状炉
管状炉
FHA series

温度: 1,350 °C
宽度: 400, 700, 950, 1,200, 1,450 mm
高度: 420, 590 mm

... 单区控温管式炉FHA和三区控温管式炉FHC,既可水平使用,又可垂直使用。最高温度1300°C。 F系列管式炉有多种选配件。5mm直径的APM加热丝,内嵌在陶瓷保温材料中。保温材料蓄热量低,热量损失少,升温速度快。采用高品质的S型控温热电偶。最多可实现8区控温,温度控制精确、均匀性好。 应用实例 ageing, annealing, brazing, calcination, catalyst research, CIM, coating, CVD, degassing, drying, ...

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室式炉
室式炉
HTRV series

温度: 1,600, 1,700, 1,800 °C
宽度: 455, 580 mm
高度: 365, 515, 765 mm

... HTRV高温管式炉,可垂直使用,最高温度可达1800℃。 高等级的保温材料由真空成型纤维板组成,其低导热系数保证能耗低、加热速度快。保温层和硅钼棒加热元件置于矩形外壳内,加热元件以垂直悬挂方式安装,更换简单方便。在高温时,加热元件与氧气反应,表面会生成二氧化硅保护层,保护加热元件收到进一步的热冲击和化学腐蚀。 凭借多种多样的配件,HTRV系列高温管式炉,能为高温范围内的应用提供完整的系统解决方案。 标准垂直式炉不含支架,用户可把炉子集成在自己的设备中。也可额外选择L型支架,用于支撑炉体。 应用实例 annealing, ...

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管状炉
管状炉
AZ series

温度: 1,350 °C
宽度: 1,800 mm
高度: 990, 1,200 mm

... AZ管式炉有8个控温区,在整个加热长度内获得所需的温度。 有8个控温区,保温材料厚实,加热元件对称分布,使得温度均匀性能优于±5°C。其主要优点是有8个独立的控温区,使得均温区可以延长。另外,控温能十分精确,可实现线性升温、峰值或其他温度场。AZ管式炉的典型应用是化学气相沉积。化学气相沉积需要有温度梯度,物质在温度较高的一端气化并在温度较低的一端冷却沉积在一片基底层上。所有的控温区都由各个热电偶独立控温和监测温度。 应用实例 退火、晶体生长、干燥、蒸发、升华、合成 标准参数 结构同FHA ...

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室式炉
室式炉
HTRV-A series

温度: 1,700, 1,600 °C
宽度: 700, 600, 800 mm
高度: 700, 800, 1,050, 1,250 mm

... 开合式管式炉的工作管安装定位简单方便,即便带有法兰的反应器也可轻松放入。开合式的设计也可以快速冷却样品。炉子上有一个控制热电偶,安装在加热区中部。炉外壳上的散热孔经过设计,能使炉体以对流方式冷却。二部分炉体各有保温材料和二硅化钼加热元件,加热元件以垂直悬挂方式安装在炉体内。安全锁能保护操作者,当打开炉体时,加热电源即被切断。 标准垂直管式炉不含支架,用户可把炉子集成在自己的设备中。也可额外选择L型支架,用于支撑炉体。 应用实例 annealing, carbonisation, crystal ...

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室式炉
室式炉
HTBL series

温度: 2,200, 1,600 °C
容量: 60 l
宽度: 2,400 mm

... HTBL底载式炉为石墨或金属加热炉。 石墨炉有2200°C和3000°C两种可选。石墨炉有50,80或者200l的不同容积,金属炉只有60l。HTBL 60 MO/16-1G最高加热温度1600°C,配有钼制隔热板和加热元件。金属炉特别适合应用非常纯净或者高真空的气氛。HTBl也非常方便装/卸样品,炉膛可以下降并露出,以方便样品任意方向放入炉内而无任何限制。另外样品热电偶可以放置于指定位置,也可以订购气氛盒。底座的移动是完全自动控制的,液动动力驱动,当炉膛移动到最低位置时,可以把炉膛手动外推90°C。 氮气,氩气和氢气可以单独或者混用,也可以使用其他气体。气氛环境轻微过压,分压压力在10到1000mbar之间,由气体流量决定。不可使用空气(氧气)。 气路系统由各种进气和控制装置组成,由真空泵进行真空操作,各个独立温度控制装置实现高温度均匀性。 应用实例 标准参数 金属炉可提供最高纯度的气氛环境(6N或更高) 可选装氢气分压控制 粉末样品抽真空操作平稳可控 全自动控制 数据记录,用于质量管理 ...

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室式炉
室式炉
HTBL series

温度: 2,200 °C
容量: 50, 80, 200 l
宽度: 2,400 mm

... HTBL底载式石墨炉有2200°C和3000°C两种可选。石墨炉有50,80或者200l的不同容积可选。 HTBl也非常方便装/卸样品,炉膛可以下降并露出,以方便样品任意方向放入炉内而无任何限制。另外样品热电偶可以放置于指定位置,也可以订购气氛盒。底座的移动是完全自动控制的,液动动力驱动,当炉膛移动到最低位置时,可以把炉膛手动外推90°C。 氮气,氩气和氢气可以单独或者混用,也可以使用其他气体。气氛环境轻微过压,分压压力在10到1000mbar之间,由气体流量决定。不可使用空气(氧气)。 气路系统由各种进气和控制装置组成,由真空泵进行真空操作,各个独立温度控制装置实现高温度均匀性。 标准参数 石墨炉可达最高温度 可选装氢气分压控制 粉末样品抽真空操作平稳可控 全自动控制 数据记录,用于质量管理 ...

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室式炉
室式炉
LHTM series

温度: 2,200, 1,600 °C
容量: 10, 1.5 l
宽度: 1,900 mm

... LHT实验室高温炉系列独有紧凑结构,专为研发实验室环境使用而设计。 整个圆柱形炉膛被加热元件和保温隔热材料包围,外面再加一层水冷保护层。小巧的体积非常适用一些小型样品的制备。 炉子和软件操控电气控制箱集成为一个简单的工作平台,底部的万向轮方便移动。这使得LHT完美契合大学或者工业研发实验室的应用。体积小,操作简单,性价比高,加热和气氛性能毫无折扣。圆柱形的结构设计也非常适合过压热处理。 整个LHT系统可以根据客户需求配备锁紧装置或最高支持到100bar高压的安全保护装置。 LHT金属炉有钨和钼制成的加热元件和防辐射隔热板,最高加热温度可以分别到2200°C和1600°C。防辐射隔热板可以避免加热元件的热量直接影响水冷层。金属结构保证了高真空度或气氛环境的高纯度,所以可以满足超高真空度的实验要求。 标准参数 紧凑设计贴合实验室应用需求 最佳真空度 高真空度可能 ...

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管状炉
管状炉
HTRH-H2

温度: 0 °C - 1,600 °C

... 通H2用管式炉是在HTRH100-600/16基础上进行升级得到的,修改后满足了氢气安全处理的所有要求规定。 从原理上来说,每个管式炉都可以改装用来通氢气,并且保证安全性。长期以来,该系统都以HTRH100-600/16管式炉为基础,炉子采用陶瓷管连接水冷,两端装有防泄漏法兰。即使在纯氢气环境下,系统的使用温度可达1600℃。在通入氢气之前,惰性气体会自动吹扫陶瓷管。吹扫用惰性气体被压缩装在气罐中,热处理之前,吹扫工作管,排出氧气。气罐排空后,需要重新注满。排气系统接在尾气燃烧装置上,燃烧排出的氢气。 尾气燃烧装置的连接本身处于加热状态,防止系统中有冷凝水形成。尾气燃烧装置由压缩空气和丙烷气体驱动,它不仅燃烧氢气,还燃烧样品中蒸发出来的粘合剂。 所有气体都通过全自动质量流量计来控制。每一个可能的故障模式,系统会自动进入安全状态。所有设备都依照SIL2生产。氢气传感器安装在炉子的顶部,如果氢气泄露传感器会立即探测到。探测到氢气泄露系统会立即启动惰性气体吹扫,炉子自动进入安全状态。使用者可通过用户友好型触摸屏操作整个炉子。 所有的管式炉可作为通氢气炉的基础系统,因此,客户有不同的可用空间和温度选择。若需要在1800℃以上通氢气,必须配备冷水夹层。 应用实例 annealing, ...

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升华作用炉
升华作用炉
VMWOOD

... 木纹效果转印炉 转印炉系统专门设计用于将聚酯薄膜的纹理图案转印到铝型材或板材表面,通常在单个表面上产生木纹或大理石效果。型材或板材部件必须事先涂过特殊的底漆粉末涂层。从薄膜到型材或板材表面的转移过程是在底层粉末涂料的胶化温度下进行的。 之前涂过底漆粉末涂层并用聚酯转移膜包装的铝型材被逐一放置在载体上,并安装在载体两侧的特殊真空喷嘴上。通过两侧的真空阀,袋子内的空气被吸出,使整个薄膜接触到型材表面。所有型材都以相同的方式逐一抽真空。按下启动按钮并将载物台车送入烘箱后 只要承载台车在烘箱内,真空泵就会持续工作,以确保实现最高的传输效率。当聚酯薄膜转移到型材表面时,台车自动离开烘箱。压缩空气系统开始工作,将空气压入包装袋,使聚酯薄膜与型材表面分离。之后,操作员将聚酯薄膜从型材表面分离,得到最终产品。 所有参数都可以通过控制面板上的触摸屏轻松调整。 ...

室式炉
室式炉
IT-GRV-330/350/2300

温度: 2,300 °C

... 晶体生长 采用改良 Lely 法进行块状碳化硅单晶的物理气相传输 (PVT) 生长 其他应用包括合成高纯度 SiC 原料 产品规格 最重要的特征 感应炉,顶部装载设计 4" SiC 块状晶体生长 中频加热功率 30 千瓦 工作频率 8-10 kHz 处理气体 氮气、氩气、氢气,分压操作 5 - 950 毫巴 通过水冷双玻璃管设置的真空/气密室 真空泵系统,真空度为 2 x 10-5 毫巴,配有涡轮分子泵(685 升/秒) 高纯度石墨毡绝缘(卤素净化) 我们使之成为可能: Linn High ...

管状炉
管状炉
TF

温度: 1,800 °C

... 管式炉是为在气体/真空环境下进行样品测试而设计的,它们有定制的尺寸和带水冷法兰的选项。炉子的最高设计温度可达1800℃。 各种应用包括老化、退火、钎焊、煅烧、催化剂研究、CIM、涂层、CVD、脱气、干燥、硬化、MIM、小型工厂、热解、烧结、焊接、升华、合成、回火、测试燃料电池、热电偶校准Tempsens是ISO和CE认证的实验室和工业炉制造商和供应商。Tempsens有各种不同尺寸的管式炉,温度范围可达1800摄氏度。 标准特点 - 最高工作温度1800摄氏度 - 高氧化铝/石英陶瓷管 - 先进的耐火材料内壁,与节能的低热质量保温材料结合使用。 - ...

升华作用炉
升华作用炉
SUB-1112-3D

温度: 0 °C - 190 °C

... SUB-1112-3D 用于小尺寸升华或取样 SubLIMATE的字面意思是 "从固态到气态,不经过液态"。由于这个过程,我们可以在质量上印刷所有能够承受175ºC的材料。 SUB-1112-3D配备了一个烘箱和一个真空泵,在可控的真空条件下产生均匀的热量。它也是专业系列中最经济的产品,完全适用于标识行业。 SUB-1112-3D推荐用于专业的小批量生产或采样。 生产周期从2分钟到30分钟不等。 通风热风炉 工作面。1100-1250毫米 涡轮通风双阻力 最高温度。190ºC 40m3/h ...

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BUGATOOL MACHINES SL
室式炉
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SUB-2510-3D

温度: 0 °C - 190 °C
高度: 110 cm
深度: 130 cm

... SUB-2510-3D 适用于染料专业升华生产大尺寸产品。 TO SUBLIME的字面意思是 "从固态到气态,不经过液态"。由于这个过程,我们可以在质量上印刷所有能够承受175ºC的材料。 SUB-2510-3D配备了一个烘箱和一个真空泵,在可控的真空条件下产生均匀的热量。它也是专业系列中最经济的产品,完全适用于标识行业。 推荐SUB-2510-3D用于专业的高产量用途。 生产周期从2分钟到50分钟不等 通风热风 工作面:2500 1000毫米 涡轮通风双阻力 最高温度。190ºC 40m3/h ...

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