等离子清洗机

... PSX307 等离子清洗机的平行板腔技术比传统的批处理系统具有更好的蚀刻均匀性。在线键合或倒装芯片连接和表面活化之前进行表面清洁，并提高底部填充润湿性和模具封装性。 PSX307A 既支持晶圆级工艺，也支持传统的基底器件级工艺。在绝缘层之前、再分布层之后、球贴附或切割之后对晶圆进行表面改性，以改进芯片贴附工艺。 - 实现均匀性的平行板技术 - 基底或 300 毫米晶片，带或不带切割框 - 获得专利的等离子监控器（实时） - 单元级工艺可追溯性 - 氩气、氧气或混合工艺气体选项 清洗方法 ...

... 自动等离子清洗 SCI 自动化专注于集成等离子体（或真空）系统的设计和制造。 这些一流的系统用于真空和等离子应用，在真空、加压或受控大气环境中需要自动化。 这种等离子自动化包括批量装载或完全自动化（物料移动和跟踪）。 SCI 系列产品包括等离子清洗和激活，适用于以下应用和市场： 半导体应用 电子应用 汽车应用 光电应用 混合应用 医疗应用 SCI 专业从事医疗应用... 集成等离子体或 真空系统真空和等离子体 应用在真空或加压或受控大气环境中需要 自动化的应用材料移动和跟踪 自动化焊接应用半导体定制自动化, ...

... 当无法找到合适的清洁解决方案时，总是会使用定制设计的特殊系统，即使是像Ecoclean提供的如此广泛的系列和改良的标准系统。再制造、设备工程、航空航天、管道制造和高纯度领域的公司（如半导体行业的生产设备制造商）选择特殊系统的原因包括部件或批量大小、需要达到的清洁度要求、非常高的产量要求和特殊工艺（表面处理，如磷化、去磷化、除垢、粗化）。 优化调整，实现最大的成本效益 无论是批量清洗还是单个零件清洗，在特殊系统的情况下，一方面，系统概念--单室或多室系统、在线浸泡系统、连续流动系统--以及清洗化学成分（水基清洁剂或溶剂）都与清洗任务最佳匹配。这也包括工厂建设中使用的材料和相关部件的设计。另一方面，使用适当的工艺技术，如喷淋、浸泡、压力淹没、喷射淹没清洗、超声波、超声波+、脉冲压力清洗（PPC）、高压射流和等离子体，以及从红外干燥、热空气干燥和真空干燥（也可结合使用）等干燥技术，能够以最大的成本效益和资源节约达到所需的清洗效果。 ...

... 罗技的SWC3000提供单晶圆清洁台式系统，用于对MEMS和半导体行业使用的晶圆和掩模进行无损伤的优化清洁。 SWC3000系统提供了可控的化学品分配能力，可以加强试样表面的颗粒去除。利用化学分配功能和超声清洗技术可以实现高度优化的清洗。 通过去离子水的径向流动将释放的颗粒从基体表面扫除。如果没有这个功能，固定式清洗槽会有更多的颗粒重新附着，因此需要更多的清洗时间来清除。 SWC3000系统能够用加热的N2或IPA进行原位旋转干燥。以最低的资本投资和拥有成本实现了 ...

... 通用温度和等离子清洗机，最大部件装载面积：305 mm x 305 mm（最大部件高度 25 mm） 应用： 活化，清洗和涂覆表面 快速提升基材和晶圆 无助焊锡 翻转芯片加工 粘接粘接 焊料凹凸回 流焊电力设备 小批量生产及原型开发 ...

... 1000W、1500W 和 2000W 激光清洗机是高功率激光清洗工具，用于清除各种表面的污染物和涂层。 1000W、1500W 和 2000W 激光清洗机是高功率激光清洗工具，用于清除各种表面的污染物和涂层。 这些机器使用激光束蒸发和去除被清洁表面上的多余材料，而不会损坏底层材料。 激光清洗机的功率以瓦特为单位，瓦特数越高，清洗速度越快，也就越能去除较厚的涂层。 1000瓦、1500瓦和2000瓦激光清洗机常用于航空航天、汽车和电子制造等行业。 激光清洗工艺的工作原理是发射一束高功率激光，聚焦在待清洗的表面上。 ...

可对罐体进行360度清扫，上下有毛轮，侧面有毛皮带可进行侧面360度清扫。 顶部安装有离子风机，可对罐体由于静电所粘附的物料粉尘进行彻底清除。 本机自带吸尘过滤装置，过滤装置拆装无需工具，易清洗，一体化设计占地小。 侧面清扫皮带可手动拆除清洗，方便快捷。 本机不需要更换模具，适应不同罐型，手动调节方便快捷。 机器内部不残留瓶子，出口有同步带过渡输送。 所有毛均采用高强耐磨纤维，使用寿命长。 本机内部采用中央集尘设计，所有粉尘杂质都会收集到储存斗内。 清洁能力：30-60罐/分钟 适用罐规格：Φ60-Φ150mm高100*200mm 整机功率：2KW 外型尺寸：（长*宽*高）2600*600*1600mm 主要材质304不锈钢 增加等离子风机，除静电清扫罐体更彻底 电源：三相380V ...