喷洒清洁系统

光纤激光压缩空气空气鼓风

用于高精度半导体元件的 TESTEQ 热真空清洁系统 业界领先的光刻、光学和晶片加工污染清除系统 该设备采用创新的倾斜密封结构（专利设计--热真空/光刻/超高真空）。 通过重力自适应盖板和双环密封圈互锁技术，可保持稳定的真空度（≤10-⁶ Pa），解决了传统设备因密封失效而导致清洁效率降低的问题。 它集成了双流体喷淋系统（氢氧化钠+去离子水），支持高温（350℃）真空环境下的无损清洗，避免热应力变形。 它适用于光刻机的掩膜板、透镜组和真空泵组件等高精度组件的维护，可显著提高芯片良率和设备寿命。 专为光刻机和掩膜板组件设计的全自动热真空清洗设备。通过高温、低压环境和非接触式干洗技术，可彻底清除纳米级污染物（如有机残留物和颗粒），满足半导体制造、平板显示器和集成电路领域对超净表面的严格要求。它支持晶片、光学透镜、真空室等多场景清洁。