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机器长度: 2,615 mm
... WLP)
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li>典型应用：晶圆清洗、光刻胶去除/剥离、表面准备、介电图案化
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li>支持晶圆尺寸：最高 300 mm（12 英寸）
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核心能力与收益
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li>专利三轴对称等离子腔以实现高均匀性与重复性
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li>SMARTTune™
... 迪纳电子的等离子体系统早已在广泛的工业领域确立了自己的地位。有了Zepto低压等离子体系统，您可以在真空中依靠现代的、面向未来的冷等离子体技术。这种等离子体系统的腔体容积约为1-4升，为实验室和小批量生产提供了足够的空间。 低压等离子体处理是一种成熟的技术，可用于受控的超细清洗、附着力增强（活化和蚀刻）以及基材表面的薄膜涂层。等离子体是通过在真空室中施加高频电压产生的。在此过程中，引入的工艺气体被电离。 应用的领域： 有机残留物的无VOC清洗 喷漆、涂胶、灌封前的活化... 主要特点： 桌子外壳 真空室：硼硅酸盐玻璃，RIE-钟形铝，矩形室，钠钙玻璃 真空室容积：约1-4升 气体供应：针阀，质量流量控制器(MFC) 发电机频率：40 ...
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... 迪纳电子的等离子体系统早已在广泛的工业领域确立了自己的地位。有了Tetra 2800低压等离子体系统，你可以依靠现代的、面向未来的真空冷等离子体技术。这种等离子体系统的腔体容积约为2800升，为系列化生产提供了足够的空间。 低压等离子体处理是一种成熟的技术，用于可控的超细清洗、附着力增强（活化和蚀刻）和基材表面的薄膜涂层。等离子体是通过在真空室中施加高频电压产生的。在此过程中，引入的工艺气体被电离。 应用的领域： 有机残留物的无VOC清洗 喷漆、胶合、浇注前的活化... 蚀刻聚四氟乙烯、光刻胶、氧化层、... 超疏水和亲水涂层 主要特点： 落地式的外壳 真空室：不锈钢 箱体容积：约2800升 气体供应：通过MFC的3个气体通道，质量流量控制器(MFC) 发电机频率：80 ...
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... 迪纳电子的等离子体系统早已在广泛的工业领域确立了自己的地位。有了Tetra 30低压等离子体系统，您可以在真空中依靠现代的、面向未来的冷等离子体技术。这种等离子体系统的腔体容积为34至50升，为系列化生产/自动化提供了足够的空间。 低压等离子体处理是一种成熟的技术，用于可控的超细清洗、附着力增强（活化和蚀刻）和基材表面的薄膜涂层。等离子体是通过在真空室中施加高频电压产生的。在此过程中，引入的工艺气体被电离。 应用的领域： 有机残留物的无VOC清洗 喷漆、胶合、浇注前的活化... 聚四氟乙烯、光刻胶、氧化层的蚀刻，... 超疏水和亲水涂层 主要特点： 落地式的外壳 真空室：不锈钢或铝 箱体容积：34 ...
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... 迪纳电子的等离子体系统早已在广泛的工业领域确立了自己的地位。有了Tetra 45低压等离子体系统，您就可以在真空中依靠现代的、面向未来的冷等离子体技术。该等离子体系统的腔体容积约为45升，为系列生产/自动化提供了足够的空间。 低压等离子体处理是一种成熟的技术，用于可控的超细清洗、附着力增强（活化和蚀刻）和基材表面的薄膜涂层。等离子体是通过在真空室中施加高频电压产生的。在此过程中，引入的工艺气体被电离。 应用的领域： 有机残留物的无VOC清洗 喷漆、胶合、浇注前的活化... 蚀刻聚四氟乙烯、光刻胶、氧化层、... 超疏水和亲水涂层 主要特点： 落地式的外壳 真空室：铝制 箱体容积：约45升 气体供应：质量流量控制器（MFCs） 发电机的频率：80千赫（0-100瓦）/（0-3000），100千赫（0-500瓦），13.56兆赫（0-300瓦），2.45吉赫（0-850瓦） 控制：基本PC控制（Windows ...
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... 迪纳电子的等离子体系统早已在广泛的工业领域确立了自己的地位。有了Femto低压等离子体系统，您可以在真空中依靠现代的、面向未来的冷等离子体技术。这种等离子体系统的腔体容积为2至3升，为实验室和小批量生产提供了足够的空间。 低压等离子体处理是一种成熟的技术，可用于受控的超细清洗、附着力增强（活化和蚀刻）以及基材表面的薄膜涂层。等离子体是通过在真空室中施加高频电压产生的。在此过程中，引入的工艺气体被电离。 应用的领域： 有机残留物的无VOC清洗 喷漆、胶合、浇注前的活化... 蚀刻聚四氟乙烯、光刻胶、氧化层、... 超疏水和亲水涂层 主要特点： 台式或落地式的外壳 真空室：不锈钢、铝、硼硅酸盐或石英玻璃 箱体容积：2-3升 气体供应：针阀或质量流量控制器（MFCs） 发电机的频率：40 ...
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... 迪纳电子的等离子体系统早已在广泛的工业领域确立了自己的地位。有了Atto低压等离子体系统，您可以在真空中依靠现代的、面向未来的冷等离子体技术。该等离子体系统的腔体容积约为10.5升，为实验室和小批量生产提供了足够的空间。 低压等离子体处理是一种成熟的技术，用于可控的超细清洗、附着力增强（活化和蚀刻）以及基材表面的薄膜涂层。等离子体是通过在真空室中施加高频电压产生的。在此过程中，引入的工艺气体被电离。 应用的领域： 有机残留物的无VOC清洗 喷漆、涂胶、灌封前的活化... 主要特点： 桌子外壳 真空室：硼硅酸盐（HP），铰链式门 箱体容积：约10.5升 气体供应：通过针阀或MFC的2个气体通道 发电机的频率：40 ...
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... 迪纳电子的等离子体系统早已在广泛的工业领域确立了自己的地位。有了Tetra 150低压等离子体系统，您就可以在真空中依靠现代的、面向未来的冷等离子体技术。该等离子体系统的腔体容积约为150升，为系列生产/自动化提供了足够的空间。 低压等离子体处理是一种成熟的技术，用于可控的超细清洗、附着力增强（活化和蚀刻）和基材表面的薄膜涂层。等离子体是通过在真空室中施加高频电压产生的。在此过程中，引入的工艺气体被电离。 应用的领域： 有机残留物的无VOC清洗 喷漆、胶合、浇注前的活化... 蚀刻聚四氟乙烯、光刻胶、氧化层、... 超疏水和亲水涂层 主要特点： 落地式的外壳 真空室：不锈钢或铝 箱体容积：约150升 气体供应：质量流量控制器（MFCs） 发电机的频率：80 ...
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... 迪纳电子的等离子体系统早已在广泛的工业领域确立了自己的地位。有了Tetra 100低压等离子体系统，您可以在真空中依靠现代的、面向未来的冷等离子体技术。该等离子体系统的腔体容积约为100升，为系列化生产/自动化提供了足够的空间。 低压等离子体处理是一种成熟的技术，用于可控的超细清洗、附着力增强（活化和蚀刻）以及基材表面的薄膜涂层。等离子体是通过在真空室中施加高频电压产生的。在此过程中，引入的工艺气体被电离。 应用的领域： 有机残留物的无VOC清洗 喷漆、胶合、浇注前的活化... 蚀刻聚四氟乙烯、光刻胶、氧化层、... 超疏水和亲水涂层 主要特点： 落地式的外壳 真空室：不锈钢或铝 箱体容积：约100升 气体供应：质量流量控制器（MFCs） 发电机的频率：80 ...
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... 迪纳电子的等离子体系统早已在广泛的工业领域确立了自己的地位。有了Pico低压等离子体系统，您可以在真空中依靠现代的、面向未来的冷等离子体技术。这种等离子体系统的腔体容积为5至8升，为实验室和批量生产提供了足够的空间。 低压等离子体处理是一种成熟的技术，用于可控的超细清洗、附着力增强（活化和蚀刻）以及基材表面的薄膜涂层。等离子体是通过在真空室中施加高频电压产生的。在此过程中，引入的工艺气体被电离。 应用的领域： 有机残留物的无VOC清洗 喷漆、胶合、浇注前的活化... 蚀刻聚四氟乙烯、光刻胶、氧化层、... 超疏水和亲水涂层 主要特点： 台式或落地式的外壳 真空室：不锈钢、铝、硼硅酸盐或石英玻璃 箱体容积：5 ...
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... 迪纳电子的等离子体系统早已在广泛的工业领域确立了自己的地位。有了Tretra 320R低压等离子体系统，您可以在真空中依靠现代的、面向未来的冷等离子体技术。该等离子体系统的腔体容积约为320升，为系列生产/自动化提供了足够的空间。 低压等离子体处理是一种成熟的技术，用于可控的超细清洗、附着力增强（活化和蚀刻）和基材表面的薄膜涂层。等离子体是通过在真空室中施加高频电压产生的。在此过程中，引入的工艺气体被电离。 应用的领域： 有机残留物的无VOC清洗 喷漆、胶合、浇注前的活化... 蚀刻聚四氟乙烯、光刻胶、氧化层、... 超疏水和亲水涂层 主要特点： 落地式的外壳 真空室：铝制 箱体容积：约45升 气体供应：质量流量控制器（MFCs） 发电机的频率：80千赫（0-100瓦）/（0-3000），100千赫（0-500瓦），13.56兆赫（0-300瓦），2.45吉赫（0-850瓦） 控制：基本PC控制（Windows ...
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