激光平版印刷系统

... 点阵式电子束光刻系统JBX-8100FS实现了高产量、小面积和省电。 特点 占地面积小 标准系统所需面积为4.9米（宽）×3.7米（深）×2.6米（高），比传统系统小得多。 低功率消耗 正常运行所需的功率约为3千伏安，减少到传统系统的1/3。 高产量 该系统有两种曝光模式，高分辨率和高产量模式，支持从超精细加工到中小尺寸生产的不同类型的图案。它最大限度地减少了曝光期间的空闲时间，同时将最大扫描速度提高了1.25至2.5倍，达到125兆赫（世界最高水平），用于高速写入。 版本 JBX-8100FS ...

... JBX-9500FS是一个100kV的EB系统，在Spot beam lithography系统中提供世界顶级的吞吐量和定位精度。该系统可容纳300mmΦ的晶圆和6英寸的掩膜，从而满足不同领域的研发和生产，如纳米压印、光子设备和通信设备。 特点 JBX-9500FS的最大扫描速度为100MHz，当场区尺寸为1000µm×1000µm时，覆盖精度为±11nm，场区拼接精度为±10nm，场区内定位精度为±9nm。因此，JBX-9500FS是一个100kV的EB系统，在Spot ...

... 逐步重复的纳米压印光刻系统 阶梯式重复纳米压印光刻技术用于高效的母版制造 EVG770 NT是一个多功能的平台，用于步进重复(S&R)纳米压印光刻技术，以实现高效的母版制造或直接在基底上形成复杂结构的图案。这种方法允许从30平方厘米以下的小模具中均匀复制模板。S&R工艺允许在大面积上多次复制这些模具，最高可达2代面板大小的基材。与金刚石车削或直写方法相结合，S&R压印经常被用来有效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母版。因此，它通常是大批量制造增强现实波导、光学传感器、衍射光学、元表面或生物医学设备的重要先决条件。 EVG770 ...

Nanoscribe的Quantum X是全球首创双光子灰度无掩模光刻系统，适用于制造微光学衍射以及折射元件。 体验全新Quantum X 全新的Nanoscribe Quantum X系统适用于工业生产中所需手板和模具的定制化精细加工。该无掩模光刻系统颠覆了自由形状的微透镜、微透镜阵列和多级衍射光学元件的传统制作工艺。 全球首个双光子灰度光刻(2GL®)系统将具有卓越性能的灰度光刻与Nanoscribe精确灵动的双光子聚合技术结合起来。 Quantum ...

... K&S 光刻通过开发专用解决方案，大幅降低拥有成本，为您带来了高级包装光刻的突破。 LiteQ 500 投影步进器的主要特点和优势 最高吞 吐量提高 2 倍的拥有成本 激光基于光源 创新光学设计 高速晶圆处理 模块化系统架构 差异化软件 ...