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... 用于电子束沉积的电子束源/电源，用于制造各种类型的薄膜，包括光学薄膜和电极涂层。 特点 电子束沉积法的特点 由于电子束直接照射到沉积材料上的加热，热效率相当好。它可以汽化各种材料，包括高熔点金属、氧化物、化合物和升华材料。 由于沉积材料是在水冷的坩埚（*）中直接加热的，因此不会像电阻加热或感应加热方法那样出现船或坩埚的反应。 在某些情况下会使用炉衬 由于可以进行高速输出控制，因此可以精确控制薄膜厚度。 与溅射和CVD方法相比，造膜的速度是一个主要特点。这对于创造1µm或更厚的涂层也很有用。 JEOL电子束源的特点 [ ...
适用于氧、氮和氢的 UNI-Bulb RF 等离子源 优化电子设备和光电器件的生产 Veeco Uni-Bulb RF 等离子源可提供电子和光电材料的 GaN 生长最佳条件以及优异的等离子稳定性和可重现性。单个 PBN 气体进口管和等离子灯泡与双同轴 RF 线圈相结合可实现优异的功率耦合和散热。为了进一步提高性能，还提供了一些设计选件（包括定制的孔板）。 气体等离子是将高度稳定的源气体（如 N2 或 H2）转换为适合 MBE 生长的更活跃的原子和分子形态的有效工具。Veeco ...
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