氧化锆磨球

铝制陶瓷碳化硅

Innovacera开发了各种陶瓷研磨介质球，如氮化硅研磨球、氧化铝陶瓷研磨球、氧化锆研磨介质球，这些是工业生产和实验室研究中重要的研磨介质。陶瓷研磨介质，也称为陶瓷研磨珠或陶瓷研磨体，广泛用于需要优越的研磨、抛光和混合过程的领域。 陶瓷研磨介质球的特点： - 有效粉碎和精炼材料 - 高研磨效率 - 非常低的磨损 - 与传统研磨介质相比，耐用性更强 - 在长时间内保持形状和尺寸稳定性 - 高化学稳定性 - 低污染 - 研磨过程中产生的有害物质极少 陶瓷研磨介质球的应用： - 高纯度粉末的超细研磨和分散，如氮化硅陶瓷粉末 - 制药 - 航空航天 - 冶金和采矿 - 实验室研究 - 高硬度材料的研磨和分散，如石英 - 电子 - 光学 - 涂料和油漆 - 化妆品 陶瓷研磨介质球的材料特性比较： - ZrO2：氧化锆（ZrO2），氧化钇（Y2O3），6.0 g/cm³，低，2-3 W/m·K - Al2O3：氧化铝（高纯度），3.75-3.95 g/cm³，中，20-30 W/mK - Si3N4：氮化硅（Si3N4），3.2 g/cm³，15 – 50 W/mK - SiC：碳化硅（SiC），3.0 – 3.2 g/cm³，高，100–120 W/m·K 陶瓷研磨介质球的烧结方式比较： - 气压烧结（GPS）：温度：1800–1900℃，烧结气氛压力：10 MPa，残余微孔率（99.2%），符合II–III级球标准 - 热等静压烧结（HIP）：温度：1800–1900℃，烧结气氛压力：200 MPa，几乎完全致密化（99.8%），与GPS相比，性能指标和疲劳寿命显著提高。 陶瓷研磨介质球的生产过程： 超细高纯度氮化硅粉末，烧结助剂，添加剂 → 均匀混合 → 喷雾干燥颗粒 → 冷等静压（CIP） → 生坯加工 → 烧结（等静压（HIP）或气压烧结（GPS）） → 球坯检查 → 粗磨、精密磨、超精加工。