PECVD镀膜机

薄膜

· 最小反射功率的快速启辉、均匀稳定大面积成膜。 · 成熟稳定的多点馈入射频RF 技术、技术兼容性和产品升级。 · 腔体内反应间距可调、灵活的工艺窗口。 · 大产能低成本、定制设备结构。 · 模块化设计便于安装和维护、高标准的安全设计思想。