薄膜镀膜机 PD-1022/UD

制备本征及掺杂非晶硅薄膜。 工艺气体在射频RF电磁场环境中电离相互反应，在衬底上沉积出相应的薄膜材料。 • 最小反射功率的快速启辉、均匀稳定大面积成膜。 • 成熟稳定的多点馈入射频RF技术、技术兼容性和产品升级。 • 腔体内反应间距可调、灵活的工艺窗口。 • 模块化设计便于安装和维护、高标准的安全设计思想。