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... 与Coat-X合作开发的聚对二甲苯沉积技术 用于电子、医疗和半导体器件涂层的低温沉积系统：CX-30/300/600 创新型聚对二甲苯– ALD混合多层沉积系统：CXC-20 ALD模块与PVD模块通过自动化传输系统连接 ...
... 采用热单原子层沉积(Thermal ALD)方式在晶质太阳电池晶圆正面蒸镀 Al2O3薄膜，形成保护层(Passivation Layer)，从而进一步改善效率的设备 规格 高通量：12,800片/小时 (1,600片/舟) 周期：30分 运行时间：97% ...
... 14A - 9kW 远程等离子体 源 - 频率：1.7 - 3MHz 功率：3000W 原地射频 电容式 等离子体源 - - 标准 可加工的 材料 - Parylene:C, D, N, F-VT4, F-AF4 ALD: Al 2 O 3 , TiO 工艺 温度 - 对二甲苯：室温 ALD: 60 - 80°C ...