UV光线曝光系统 2000AF

带有边缘清洁设备

OAI 2000型曝光系统可以配置为边缘珠子曝光系统(2000SM)或水浸式曝光系统(2000AF)；这两种配置都是基于OAI成熟的、经过时间考验的平台。 2000型曝光系统的两个版本都包括一个紫外光源、强度控制电源和机器人基质处理子系统。紫外光源提供可调强度的光束，发散半角<2.0%。电源的功率从200W到2,000W都有。强度控制器传感器直接与光源相连，以实现精确的强度监测。机器人基片处理系统由微处理器控制，可以通过编程来适应各种基片尺寸。影子掩膜功能使用户能够在非常接近掩膜的情况下对基片的顶部进行图案制作。在25微米的间距下，这些系统能够达到6微米的分辨率。 在SM配置中，边珠曝光系统为使用标准影子掩模技术去除边珠提供了一种经济有效的方法。掩膜和基片的转换可以快速而容易地完成，增加了这种大批量生产工具的通用性和产量。 在AF配置中，2000型泛光曝光系统被用来增强，和/或提高生产和研发环境中的光刻工艺。应用包括光阻的稳定和修改，图像反转和PCM过程。