催化剂 Micromeritics ICCS

基础原位催化剂表征 无需将催化剂从反应器中取出，即可进行脉冲化学吸附和温度程序分析 (TPx)。 高灵敏度热导检测器 (TCD)，用于监测进入和流出反应器气体浓度的变化 内部冷阱用于去除可冷凝液体（例如，氧化物还原过程中产生的水） 概览 Micromeritics ICCS 原位催化剂表征系统是一种先进工具，允许用户在精确控制且具有代表性的工艺条件下，研究反应对关键参数（如活性位点数量）的影响。 ICCS 是一款独立配件，旨在补充任何动态实验室反应器系统，例如 Micromeritics Flow Reactor，并新增了两项新功能：温度程序分析 (TPx) 和脉冲化学吸附。 这些广为人知、久经验证的技术如今可用于新鲜催化剂，并可在使用后的催化剂上重复进行，无需将材料从反应器中取出。这使得催化剂的详细对比成为可能，尤其是在使用前后活性位点数量方面。用户可从用于反应研究的同一份样品中获得温度程序分析和脉冲化学吸附数据。 在原位执行这些分析几乎可以消除来自空气中气体和水分的污染，这些污染可能会损害活性催化剂并影响数据完整性。 PID 于 2018 年加入 Micromeritics，并将其包括 ICCS 在内的专利技术整合进产品组合。2025 年，Micromeritics 与 PID 加入 Malvern Panalytical，将这些卓越仪器纳入该集团的材料表征解决方案中。 两个高性能质量流量控制器，实现精确、全自动的气体流量控制，以支持 TPx 和脉冲化学吸附分析 全封闭原位测试，支持使用同一样品对同一催化剂进行多次表征 高精度热导检测器 (TCD)，实时监测流入和流出样品反应器的气体浓度变化 触摸屏、直观的软件和图形界面，实现简便流畅的操作，并便于直观地查看与操控警报、命令与控制参数 温控不锈钢流路，可提供惰性且稳定的运行环境，并降低冷凝风险；两个内部温控区域可独立控制 内部冷阱配备额外温控区域，用于去除可冷凝液体（例如氧化物还原过程中生成的水） 超低体积流路，最大限度减少峰展宽并显著提高峰分辨率 耐腐蚀检测丝，长期兼容常用 TPx 和脉冲化学吸附气体 交互式峰值编辑器工具包，帮助研究人员轻松将数据转化为信息；仅需点击即可调整峰值边界 操作原理 ICCS 的典型操作流程始于将催化剂装入反应器系统。随后可通过温度程序方法对催化剂进行表征： 温度程序还原 (TPR) 通常用于负载型金属催化剂 温度程序脱附 (TPD) 可能是酸性或碱性催化剂的最佳选择 TPx 之后通常接续进行脉冲化学吸附，以测定活性位点数量。结合使用 TPx 和脉冲滴定可在代表性条件下（尤其是在高压下）对新鲜（未使用）催化剂进行特性分析。 完成初步表征后，用户可继续使用同一样品开展反应研究，无需添加额外催化剂或转移至其他设备。 催化剂失活或经过长时间测试后，可采用 TPx 和脉冲化学吸附技术，在相同条件下对使用后的催化剂进行分析，分析方式与新鲜材料相同。该策略提供了一种方法，无需将催化剂从反应器中取出，即可比较其使用前后的关键特性，例如活性位点数量。